[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示面板及显示器在审

专利信息
申请号: 201710738497.0 申请日: 2017-08-24
公开(公告)号: CN107329314A 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 史文 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/13357
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司44202 代理人: 郝传鑫,熊永强
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制作方法 显示 面板 显示器
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法,以及一种显示面板及显示器。

背景技术

目前市面上的普通液晶显示器的色域一般在68-72%NTSC之间,不能提供高质量的显示效果。现有一种量子点显示面板,能够明显提高显示面板的色域,进而得到高质量的显示效果。量子点材料为一种光致发光材料,是指粒径在1-100nm之间的无机半导体纳米晶粒,由于所述量子点的小的粒径,所述量子点内的电子和空穴的三维方向的运动均被限制,连续的能带结构变成具有分子特性的分立能级结构,受激后可以发射荧光。由于其分立能级结构,光谱半波宽较窄,因此发射的光色纯度较高,能够明显提高显示面板的色域。另外,可以简单的通过调整量子点尺寸的大小来调节发射光的波长,能够进一步提高显示面板的显示效果。

现有技术中,一般通过使用蓝光或紫光背光源激发彩膜基板上的量子点层实现红、绿、蓝三色显示,但背光源发出的部分短波长的光不能够完全被量子点吸收转换,从而会产生量子点层的漏光,进而影响所述彩膜基板的出光纯度。现有技术中,为了防止量子点层漏光,需要先在基板上形成与量子点层发光波长相匹配的有色光阻层,再在所述有色光阻层上形成量子点层的在量子点层。通过所述有色光阻层吸收背光源的短波长光,并透过量子点层发射的光。但是,形成所述有色光阻层及所述量子点层需要分别形成,增加了所彩膜基板的制作工序,制作成本较高。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板,同时形成所述有色光阻层及量子点层,减少所述彩膜基板的制作工序,降低制作成本。

所述彩膜基板包括基板,依次层叠于所述基板上的有色光阻层及量子点层,所述量子点层的发光波长与所述有色光阻层的透光波长相同,且所述量子点外表面结合有表面修饰基团。

其中,所述彩膜基板还包括黑矩阵,所述黑矩阵层叠于所述基板上,所述黑矩阵包括多个阵列排布的沉积槽,所述沉积槽的底壁为所述基板,所述量子点层包括多个阵列排布的量子点层区域,所述有色光阻层包括多个阵列排布的有色光阻层区域,每个所述沉积槽内沉积有一个所述量子点层区域及一个所述有色光阻层区域,且所述有色光阻层区域位于所述量子点层区域及所述基板之间。

其中,多个所述量子点层区域包括数个红光量子点区域及数个绿光量子点区域,或者包括数个红光量子点区域、数个绿光量子点区域及数个蓝光量子点区域;多个所述有色光阻层区域中包括数个红色光阻区域及数个绿色光阻区域,或者包括数个红色光阻区域、数个绿色光阻区域及数个蓝色光阻区域,每个所述沉积槽内沉积的所述量子点层区域的发光颜色与所述有色光阻层区域的颜色相同。

其中,所述表面修饰基团为含氟基团。

本发明还提供一种彩膜基板的制作方法,包括步骤:

提供一基板,并在所述基板上沉积黑矩阵材料层;

图案化所述黑矩阵材料层,得到黑矩阵,所述黑矩阵包括多个阵列排布的沉积槽;

合成得到量子点,所述量子点的外表面结合有表面修饰基团;

提供有色光阻材料及溶剂,通过溶剂将所述有色光阻材料及合成得到的所述量子点进行混合得到彩膜混合溶液;

在每个所述沉积槽内沉积所述彩膜混合溶液;

干燥所述彩膜混合溶液,同时得到有色光阻层及层叠于所述有色光阻层上的量子点层,所述有色光阻层位于所述基板及所述量子点层之间。

其中,步骤“干燥所述彩膜混合溶液”包括:

先自然干燥所述彩膜混合溶液,使所述彩膜混合溶液中的量子点与有色光阻材料自然分层;

再真空干燥或加热干燥所述彩膜混合溶液,去除所述彩膜混合溶液中的溶剂,以同时得所述有色光阻层及层叠于所述有色光阻层上的所述量子点层,且所述有色光阻层位于所述基板及所述量子点层之间。

其中,所述表面修饰基团为含氟基团。

其中,所述溶剂包括水、酒精或甘油中任一种。

本发明还提供一种显示面板,所述显示面板包括液晶层、阵列基板及上述的彩膜基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置,所述液晶层位于所述彩膜基板及所述阵列基板之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710738497.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top