[发明专利]用于制造三维物体的设备

权利要求书

1.一种用于通过使用能量束(4)依次逐层地选择性照射和固化多层建造材料(3)来添加式地制造三维物体(2)的设备(1)，所述设备包括：

构造成产生能量束(4)的照射装置(5)，其中所述能量束(4)沿所述能量束(4)的光束路径(6)传播到建造平面(7)上，其中所述能量束(4)在至少一个固化区(8)中照射建造材料(3)，

探测装置(11)，所述探测装置构造成探测从与所述固化区(8)相邻的至少一个相邻区(9，10)发出的辐射(12b)或探测从所述固化区(8)发出的辐射(12a)和从相邻区(9，10)发出的辐射(12b)；以及

扫描单元(13)，所述扫描单元构造成使从所述至少一个固化区(8)和/或所述至少一个相邻区(9，10)发出的辐射(12a，12b)沿光束路径(12)偏转到所述探测装置(11)，所述光束路径(12)偏离所述能量束(4)沿其行进的光束路径(6)。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述探测装置(11)构造成探测至少一个固化区(8)和/或至少一个相邻区(9，10)的温度和/或确定至少一个固化区(8)与至少一个相邻区(9，10)之间的温度梯度。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于具有控制单元(17)，所述控制单元构造成根据探测到的温度和/或所确定的温度梯度来调节或设定至少一个过程参数。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述控制单元(17)构造成根据超过预定阈值的探测到的温度和/或所确定的温度梯度来：降低至少一个固化区(8)中的温度；和/或升高至少一个相邻区(9，10)中的温度；和/或减小至少一个固化区(8)与至少一个相邻区(9，10)之间的温度梯度。

5.根据权利要求3或4所述的设备，其特征在于，所述控制单元(17)构造成根据环境参数和/或所述能量束(4)的路径速率和/或所述建造材料(3)的状态来控制所述温度和/或所述温度梯度。

6.根据前述权利要求1-4中任一项所述的设备，其特征在于具有数据存储器，所述数据存储器构造成存储至少一个参数。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，通过将所述至少一个固化区(8)和/或所述至少一个相邻区(9，10)在所述探测装置(11)的测量单元(14)上成像，使所述扫描单元(13)与所述照射装置(5)的构造成将所述能量束(4)引导到所述建造平面(7)上的至少一个束偏转单元同步。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述探测装置(11)包括至少一个光学元件(16)，所述光学元件构造成将所述至少一个固化区(8)和/或所述至少一个相邻区(9，10)在所述测量单元上成像。

9.根据权利要求7或8所述的设备，其特征在于，所述测量单元(14)包括比色高温计摄像机。

10.根据前述权利要求1-4中任一项所述的设备，其特征在于具有布置在所述建造平面(7)与所述探测装置(11)之间的保护镜(15)，其中所述保护镜(15)的透射光谱在170nm至5000nm的范围内。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，其中所述保护镜(15)的透射光谱在400nm至2000nm的范围内。

12.一种用于根据前述权利要求中任一项所述的设备(1)的探测装置(11)，其中，所述探测装置(11)构造成探测从与固化区(8)相邻的至少一个相邻区(9，10)发出的辐射(12b)或探测从所述固化区(8)发出的辐射(12a)和从所述相邻区(9，10)发出的辐射(12b)，其中，使用扫描单元(13)将从所述固化区(8)和/或所述至少一个相邻区(9，10)发出的辐射(12a，12b)沿光束路径(12)偏转到所述探测装置(11)，所述光束路径(12)偏离能量束(4)沿其行进的光束路径(6)。