[发明专利]一种单面双电极和一种电响应材料表面构型的方法在审
| 申请号： | 201711292552.4 | 申请日： | 2017-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN108089380A | 公开（公告）日： | 2018-05-29 |
| 发明（设计）人： | 李皓;李德彦;廖经纶;赵威;周国富 | 申请（专利权）人： | 华南师范大学;深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/137 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 510006 广东省广州市番禺区外*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 双电极 刻痕 电响应材料 表面构型 电场 导电材料 电场区域 电场响应 电响应 非矩形 响应 观察 涂覆 表现 | ||
1.一种单面双电极，其特征在于，包括导电材料，所述导电材料上具有刻痕，所述刻痕的形状为自由曲线，所述刻痕将所述导电材料分隔为两部分。
2.根据权利要求1所述的单面双电极，其特征在于，所述刻痕的形状为规则曲线。
3.根据权利要求1所述的单面双电极，其特征在于，所述刻痕的宽度为10～300μm。
4.根据权利要求3所述的单面双电极，其特征在于，所述刻痕的宽度为30～200μm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的单面双电极，其特征在于，所述导电材料为金属氧化物、金属中的一种。
6.根据权利要求5所述的单面双电极，其特征在于，所述金属氧化物为ITO玻璃。
7.根据权利要求5所述的单面双电极，其特征在于，所述金属为金、银、铜中的一种。
8.一种电响应材料表面构型的方法，其特征在于，包括以下步骤：
取权利要求1-7任一项所述的单面双电极；
在所述单面双电极上具有刻痕的一面涂覆电响应材料；
在所述刻痕的一侧接上电源的正极，在所述刻痕的另一侧接上电源的负极，接通电源。
9.根据权利要求8所述的电响应材料表面构型的方法，其特征在于，所述涂覆的方式为旋涂、刮涂、提拉法、玻璃盒子成膜法中的一种。
10.根据权利要求8所述的电响应材料表面构型的方法，其特征在于，涂覆的电响应材料的厚度≤300μm。
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