[发明专利]光学成像系统有效
申请号: | 201711298555.9 | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN108427173B | 公开(公告)日: | 2021-08-06 |
发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘燿维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有负屈折力;
一第二透镜,具有负屈折力;
一第三透镜,具有正屈折力;
一第四透镜,具有正屈折力;
一第五透镜,具有负屈折力;
一第六透镜,具有正屈折力;
一第七透镜,具有负屈折力;
一第一成像面,其为一特定垂直于光轴的可见光像平面并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值;以及
一第二成像面,其为一特定垂直于光轴的红外光像平面并且其中心视场于第一空间频率的离焦调制转换对比转移率有最大值,其中该光学成像系统具有屈折力的透镜为七枚,该第一透镜与该第二透镜的材质皆为玻璃,该第七透镜的材质为塑料,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该第一成像面于光轴上的距离为HOS,该光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,该光学成像系统于该第一成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,该第一透镜至该第七透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5、ETP6以及ETP7,前述ETP1至ETP7的总和为SETP,该第一透镜至该第七透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5、TP6以及TP7,前述TP1至TP7的总和为STP,该第一成像面与该第二成像面间于光轴上的距离为FS,其满足下列条件:f/HEP=1.6;HAF=100deg;0.999≤SETP/STP≤1以及0mm≤︱FS︱≤0.01mm;
其中,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第一成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.891≤EIN/ETL≤0.969。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该红外光的波长介于700nm至1300nm以及该第一空间频率以SP1表示,其满足下列条件:SP1≤440cycles/mm。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第三透镜的像侧面于光轴上为凸面。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜至该第七透镜中至少一透镜的至少一表面具有至少一反曲点。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,其满足下列公式:0.461≤SETP/EIN≤0.547。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第一成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,该第七透镜像侧面上与光轴的交点至该第一成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.9944≤EBL/BL≤1.0206。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,更包括一光圈,并且于该光圈至该第一成像面于光轴上的距离为InS,其满足下列公式:0.1579≤InS/HOS≤0.2810。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先进光电科技股份有限公司,未经先进光电科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711298555.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。