[发明专利]用于光学邻近效应修正的计算光刻方法及系统

权利要求书

1.一种用于光学邻近效应修正的计算光刻方法，包括：

分解步骤，所述分解步骤包括将输入的版图设计文件按照工艺因子的值分解为第一布局部分和第二布局部分，其中，所述第一布局部分的工艺因子低于预设阈值，且所述第二布局部分的工艺因子大于所述预设阈值，所述分解步骤还包括对所述第一布局部分和所述第二布局部分分别设置标识；

处理步骤，所述处理步骤包括对所述第一布局部分进行掩膜版优化和对所述第二布局部分进行光学邻近效应修正处理；以及

匹配及合并步骤，所述匹配及合并步骤包括按照所述标识匹配及合并已处理的所述第一布局部分和所述第二布局部分，使已处理的所述第一布局部分的边界和所述第二布局部分的边界结合在一起。

2.根据权利要求1所述的计算光刻方法，其特征在于，所述分解步骤还包括：

对输入的所述版图设计文件进行遍历，以按照所述版图设计文件中各点的工艺因子的值确定所述第一布局部分和所述第二布局部分。

3.根据权利要求1所述的计算光刻方法，其特征在于，

所述标识包含所述第一布局部分和所述第二布局部分各自在所述版图设计文件中的位置信息。

4.根据权利要求1所述的计算光刻方法，其特征在于，所述处理步骤还包括对经过掩膜版优化的所述第一布局部分进行检验。

5.根据权利要求1所述的计算光刻方法，其特征在于，所述光学邻近效应修正方法还包括：

检验步骤，所述检验步骤包括检验已合并的所述版图设计文件的边界是否结合；以及

热点修正步骤，所述热点修正步骤包括对边界结合的所述版图设计文件进行热点修正。

6.一种用于光学邻近效应修正的计算光刻系统，其特征在于，所述计算光刻系统包括：

分解模块，用于将输入的版图设计文件按照工艺因子的值分解为第一布局部分和第二布局部分，其中，所述第一布局部分的工艺因子低于预设阈值，且所述第二布局部分的工艺因子大于所述预设阈值，所述分解模块还用于对所述第一布局部分和所述第二布局部分分别设置标识；

处理模块，用于分别对所述第一布局部分进行掩膜版优化和对所述第二布局部分进行光学邻近效应修正处理；以及

匹配及合并模块，用于按照所述标识匹配及合并已处理的所述第一布局部分和所述第二布局部分，使已处理的所述第一布局部分的边界和所述第二布局部分的边界结合在一起。

7.根据权利要求6所述的计算光刻系统，其特征在于，

所述分解模块还用于对输入的所述版图设计文件进行遍历，以按照所述版图设计文件中各点的工艺因子的值确定所述第一布局部分和所述第二布局部分。

8.根据权利要求6所述的计算光刻系统，其特征在于，

所述标识包含所述第一布局部分和所述第二布局部分各自在所述版图设计文件中的位置信息。

9.根据权利要求6所述的计算光刻系统，其特征在于，所述处理模块还用于对经过掩膜版优化的所述第一布局部分进行检验。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的计算光刻系统，其特征在于，所述计算光刻系统还包括：

检验模块，用于检验光学邻近效应修正验证以检查所述版图设计文件的边界的结合；以及

热点修正模块，用于修正所述版图设计文件中的热点。

11.一种用于光学邻近效应修正的计算光刻设备，其特征在于，包括：

一个或多个处理器；

存储装置，用于存储一个或多个程序；

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行时，所述一个或多个处理器实行如权利要求1-5中任一项所述的计算光刻方法。