[发明专利]一种高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法有效
申请号: | 201711391604.3 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108147821B | 公开(公告)日: | 2021-04-27 |
发明(设计)人: | 程章勇;杨丽雯;刘欣宇;杨雷雷 | 申请(专利权)人: | 北京华进创威电子有限公司 |
主分类号: | C30B29/38 | 分类号: | C30B29/38;C30B29/10;C30B29/00 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 | 代理人: | 张宇锋 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 多孔 氮化 铝雏晶料源 制备 方法 | ||
1.一种高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:
1)制备粘结剂:量取混合溶液总体积的5~80%的起粘附作用的有机物、2~20%的去离子水以及0.5~20%的氨水,将上述组分混合后以200~2000rpm的搅拌速度搅拌3~10min;其中,混合后溶液中上述组分含量的百分数之和等于100%;
2)制备氮化铝块状坯料:称取粉体混合物总重量的50%~96%氮化铝粉体以及4%~50%的NH4HCO3粉体均匀混合为粉体混合物;将步骤1)预制备的粘结剂与所述粉体混合物均匀混合;将混合完毕的粉状料均匀地投放到模具中,采用二次成型工艺进行压制;
3)制备雏晶料源:将氮化铝块装坯料放置在坩埚中,同时将其置于热场结构中;在氮气压力为30~100KPa条件下进行提纯处理;其中,提纯处理过程为:0~200℃时,5~15℃/min;200℃恒温30~120min;200~800℃时,10~25℃/min;800℃恒温30~120min;800~2000℃时, 10~30℃/min;2000℃恒温30~180min;2000~2200℃时,10~20℃/min;2200℃恒温60~3000min;2200~0℃时,10~50℃/min。
2.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中制备氮化铝块状坯料的整个过程的环境温度不高于27℃。
3.根据权利要求2所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中制备氮化铝块状坯料的整个过程的环境温度为20℃。
4.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中所述氮化铝粉体的颗粒≥250目,纯度不小于94%。
5.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中二次成型工艺进行压制的压力为0.5~50MPa。
6.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤3)中提纯处理过程采用的坩埚为TaC材质或TaC-Ta混合材质或W材质。
7.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤3)中提纯处理过程采用的热场结构载体为感应炉或金属加热器-金属保温结构炉。
8.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤1)中所述起粘附作用的有机物包括但不限于异丙醇或丁醇。
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