[发明专利]一种高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法有效

专利信息
申请号: 201711391604.3 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108147821B 公开(公告)日: 2021-04-27
发明(设计)人: 程章勇;杨丽雯;刘欣宇;杨雷雷 申请(专利权)人: 北京华进创威电子有限公司
主分类号: C30B29/38 分类号: C30B29/38;C30B29/10;C30B29/00
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 张宇锋
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 高纯 多孔 氮化 铝雏晶料源 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

1)制备粘结剂:量取混合溶液总体积的5~80%的起粘附作用的有机物、2~20%的去离子水以及0.5~20%的氨水,将上述组分混合后以200~2000rpm的搅拌速度搅拌3~10min;其中,混合后溶液中上述组分含量的百分数之和等于100%;

2)制备氮化铝块状坯料:称取粉体混合物总重量的50%~96%氮化铝粉体以及4%~50%的NH4HCO3粉体均匀混合为粉体混合物;将步骤1)预制备的粘结剂与所述粉体混合物均匀混合;将混合完毕的粉状料均匀地投放到模具中,采用二次成型工艺进行压制;

3)制备雏晶料源:将氮化铝块装坯料放置在坩埚中,同时将其置于热场结构中;在氮气压力为30~100KPa条件下进行提纯处理;其中,提纯处理过程为:0~200℃时,5~15℃/min;200℃恒温30~120min;200~800℃时,10~25℃/min;800℃恒温30~120min;800~2000℃时, 10~30℃/min;2000℃恒温30~180min;2000~2200℃时,10~20℃/min;2200℃恒温60~3000min;2200~0℃时,10~50℃/min。

2.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中制备氮化铝块状坯料的整个过程的环境温度不高于27℃。

3.根据权利要求2所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中制备氮化铝块状坯料的整个过程的环境温度为20℃。

4.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中所述氮化铝粉体的颗粒≥250目,纯度不小于94%。

5.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤2)中二次成型工艺进行压制的压力为0.5~50MPa。

6.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤3)中提纯处理过程采用的坩埚为TaC材质或TaC-Ta混合材质或W材质。

7.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤3)中提纯处理过程采用的热场结构载体为感应炉或金属加热器-金属保温结构炉。

8.根据权利要求1所述的高纯多孔氮化铝雏晶料源制备方法,其特征在于,步骤1)中所述起粘附作用的有机物包括但不限于异丙醇或丁醇。

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