[实用新型]一种研磨液中央供应系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体的制造领域，特别是一种研磨液中央供应系统。

背景技术

现有研磨液中央供应系统由原物料供应单元（通常放在无尘室一层），混酸桶或混酸供应一体桶（通常放在无尘室二层，是3L以上的混酸桶），VMB（放在无尘室三层）组成，适用于大多数研磨液。随着制程的不断进步，对研磨液新鲜度的要求越来越高，研磨液混好后，必须在很短时间内用掉（时间取决于研磨液混好后的变质时间或过氧化氢溶液的挥发速率）。另外，这种供应系统的灵活性很差，如果遇到研磨液质量问题，想要进行整条装置的冲洗，需要整条生产线停线进行。因此，发明一种能够提高研磨液利用率和方便部分停机清洗的供应系统显得尤为重要。

发明内容

针对上述不足，本实用新型的目的在于提供一种研磨液中央供应系统。

本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：

一种研磨液中央供应系统，包括通过管路顺次连接的：

一原料液供应装置，包括第一出料管路和第一回路；

一研磨液混合装置，包括第二出料管路和第二回路；

一研磨液供应装置，包括第三出料管路和第三回路；

若干化学机械研磨站，所述化学机械研磨站通过所述第三出料管路并联设置；

所述第一出料管路和所述第一回路分别连接所述原料液供应装置和所述研磨液混合装置，所述第二出料管路和所述第二回路分别连接所述研磨液混合装置和所述研磨液供应装置，所述第三出料管路与所述第三回路相连通而形成完整回路。

优选地，所述第一出料管路通过研磨液测量槽连接于所述研磨液混合装置。

优选地，所述第二出料管路分别通过比重测量装置和pH测量装置连接于所述研磨液供应装置。

优选地，所述研磨液混合装置还包括有去离子水测量槽和化学制品测量槽。

优选地，所述第三出料管路通过至少一个泵体连接于所述化学机械研磨站。

优选地，所述研磨液供应装置还包括去离子水加入槽和氮气加入槽。

本实用新型的有益效果是：在对现有技术进行改装时，本实用新型的技术方案可充分利用现有原供应系统，随着供应量的增加而不需要建立更大型的中央混液供液系统，节省成本；使用灵活，研磨液供应系统需要至少半年就要停机冲洗，采用本发明，可以对本地供应系统分段清洗，不必导致整条管路停车。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1原料液供应装置、11第一出料管路、12第一回路、13研磨液测量槽、2研磨液混合装置、21第二出料管路、22第二回路、23比重测量装置、24pH测量装置、25去离子水测量槽、26化学制品测量槽、3研磨液供应装置、31第三出料管路、32第三回路、33泵体、34去离子水加入槽、35氮气加入槽、4化学机械研磨站。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。就说明书中所使用的术语“管路”而言是可互换使用，并且这些术语“管路”可有关于传统上应用在传输液体( 包括研磨液) 和/ 或气体材料与其组合的流体管道的任何型式、尺寸或组态。