[实用新型]一种清洗机台反射率测试辅助装置有效
申请号: | 201720911412.X | 申请日: | 2017-07-26 |
公开(公告)号: | CN207183220U | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 张美玲 | 申请(专利权)人: | 润峰电力有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 272000 山东省*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清洗 机台 反射率 测试 辅助 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种反射率测试辅助装置,尤其适用于对清洗自动化上下料要求较高的设备。
背景技术
目前,反射率作为清洗监控点,必须按规定时间多次测试,因D8测试仪和制绒机台分离,因在测试反射率时须把硅片从制绒机台取至D8测试仪测试,直接接触制绒面,极易造成绒面脏污等外观不良,不良片的返工或降级造成人力物力的浪费,增加生产成本。
发明内容
为了克服现有测试问题,本实用新型提供一种反射率测试辅助装置,其可有效解决现有测试中需要将硅片取出,进而造成绒面脏污现象。
为实现上述目的,本实用新型采用以下技术方案:一种清洗机台反射率测试辅助装置,包括电池片输送带,所述电池片输送带为两组,并列设置,所述电池片输送带用于输送电池片,所述电池片位于两组电池片输送带上方,所述电池片输送带之间设置有反射率测试仪,所述反射率测试仪的顶面与电池片输送带顶面平齐或位于电池片输送带顶面下方。
优选的,所述反射率测试仪为市售测试仪。
优选的,本实用新型上述技术特征置于测试暗箱内,所述测试暗箱内包括氙灯、光谱仪等测试设备。
与现有技术相比,本实用新型结构简单,无需硅片转运取出作业,不会造成绒面脏污,并且测试精确,效率高,不依赖人工作业,有效减少外观不良,对反射率监控更加方便精确,提高产量,降低成本。
附图说明
为对本实用新型做进一步说明,下面列举附图和具体实施方式。
图1为本实用新型结构示意图。
具体实施方式
图1所示,一种清洗机台反射率测试辅助装置,包括电池片输送带(1、2),所述电池片输送带(1、2)为两组,并列设置,所述电池片输送带(1、2)用于输送电池片,所述电池片位于两组电池片输送带(1、2)上方,所述电池片输送带(1、2)之间设置有反射率测试仪3,所述反射率测试仪3的顶面与电池片输送带(1、2)顶面平齐或位于电池片输送带(1、2)顶面下方。
优选的,所述反射率测试仪3至少2组。
显而易见,上述实施方式仅仅为本实用新型的其中一个实施例,任何在本实用新型所提供结构或原理上的简单改进均属于本实用新型的保护范围。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于润峰电力有限公司,未经润峰电力有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720911412.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造