[实用新型]掩膜板有效
| 申请号： | 201721684631.5 | 申请日： | 2017-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN207572404U | 公开（公告）日： | 2018-07-03 |
| 发明（设计）人： | 农艳菲;龚建国;王衣可;冉应刚;吴俊雄;柯贤军;苏君海;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/00;C23C14/04 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 叶剑 |
| 地址： | 516029 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磨砂层 识别码 掩膜 掩膜基板 掩膜板 影响生产效率 摩擦力作用 表面设置 光线集中 框架连接 框架设置 使用寿命 漫反射 读码 刻蚀 喷涂 蒸镀 反射 磨损 开口 失败 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括掩膜框架和掩膜基板，所述掩膜基板与所述掩膜框架连接，所述掩膜基板上开设有多个蒸镀开口；
所述掩膜框架设置有识别部，所述识别部的表面设置有磨砂层，所述磨砂层上设置有识别码。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜框架凹陷设置有识别槽，所述识别部设置于所述识别槽内。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜框架还设置有挡光部，所述挡光部绕设于所述识别部的外侧。
4.根据权利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述挡光部凸起于所述掩膜框架表面的厚度大于所述识别部凸起于所述掩膜框架的表面的厚度。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述挡光部具有矩形截面。
6.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述挡光部具有方形截面。
7.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述挡光部具有圆环形截面。
8.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述识别部具有矩形截面。
9.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述识别部具有方形截面。
10.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述识别部具有圆形截面。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
