[发明专利]组合物、光漫射器和由其形成的装置以及相关方法有效
申请号: | 201780073116.X | 申请日: | 2017-12-08 |
公开(公告)号: | CN109983094B | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | D·A·卡德莱茨;T·赛德拉姆;K·范蒂格伦 | 申请(专利权)人: | 美国陶氏有机硅公司 |
主分类号: | C09D183/04 | 分类号: | C09D183/04;C08G77/12;C08G77/20;C08L83/04;C08G77/00;H01L23/29;H01L33/56 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉;陈哲锋 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 漫射 形成 装置 以及 相关 方法 | ||
1.一种组合物,所述组合物包含:
(I)芳基组分,所述芳基组分包含:
A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:
RaSiO(4-a)/2
其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a使得0.5≤a≤2.2;以及
B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:
R1bHcSiO(4-b-c)/2
其中每个R1为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,所有R1基团的至少5摩尔百分比为芳基基团,并且选择b和c使得1.0b2.2;0.002c1;并且1.0b+c3.0;
其中组分(I)(A)和(I)(B)以一定量存在于所述芳基组分中,以提供0.3至5的组分(I)(B)中硅键合的氢原子与组分(I)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比;并且
(II)甲基组分,所述甲基组分包含:
A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:
R2dSiO(4-d)/2
其中每个R2为独立选择的取代或未取代的烷基基团,前提条件是在一个分子中,R2中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R2基团中的至少20摩尔百分比为甲基基团,并且其中选择d使得0.5≤d≤2.2;以及
B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:
R3eHfSiO(4-e-f)/2
其中每个R3为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烷基基团,前提条件是在一个分子中,所有R3基团的至少20摩尔百分比为甲基基团,并且选择e和f使得1.0e2.2;0.002f1;并且1.0e+f3.0;
其中组分(II)(A)和(II)(B)为以一定量存在于所述甲基组分中以提供0.3至5的(II)(B)中硅键合的氢原子与(II)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比;以及
(III)硅氢加成催化剂;
其中基于组分(I)和(II)的总重量计,组分(I)以0.15重量%至21.0重量%的量存在于所述组合物中。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中:(i)当固化以得到固化产物时,所述固化产物在暴露于光时表现出透射光的漫射;或者(ii)组分(I)(A)包含混合物,所述混合物包含:
(A)(i)具有平均公式的直链的有机聚硅氧烷:
Ra’SiO(4-a’)/2
其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a'使得1.9≤a'≤2.2;以及
(A)(ii)具有平均公式的树脂状有机聚硅氧烷:
Ra”SiO(4-a”)/2
其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a”使得0.5≤a”≤1.7;或(iii):(i)和(ii)两者。
3.一种制备根据权利要求1或2所述的组合物的方法,所述方法包括:
将组分(I)(A)、(I)(B)、(II)(A)、(II)(B)和(III)组合以得到所述组合物。
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