[发明专利]组合物、光漫射器和由其形成的装置以及相关方法有效

专利信息
申请号: 201780073116.X 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN109983094B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: D·A·卡德莱茨;T·赛德拉姆;K·范蒂格伦 申请(专利权)人: 美国陶氏有机硅公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C08G77/12;C08G77/20;C08L83/04;C08G77/00;H01L23/29;H01L33/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭辉;陈哲锋
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 组合 漫射 形成 装置 以及 相关 方法
【权利要求书】:

1.一种组合物,所述组合物包含:

(I)芳基组分,所述芳基组分包含:

A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:

RaSiO(4-a)/2

其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a使得0.5≤a≤2.2;以及

B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:

R1bHcSiO(4-b-c)/2

其中每个R1为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,所有R1基团的至少5摩尔百分比为芳基基团,并且选择b和c使得1.0b2.2;0.002c1;并且1.0b+c3.0;

其中组分(I)(A)和(I)(B)以一定量存在于所述芳基组分中,以提供0.3至5的组分(I)(B)中硅键合的氢原子与组分(I)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比;并且

(II)甲基组分,所述甲基组分包含:

A.具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:

R2dSiO(4-d)/2

其中每个R2为独立选择的取代或未取代的烷基基团,前提条件是在一个分子中,R2中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R2基团中的至少20摩尔百分比为甲基基团,并且其中选择d使得0.5≤d≤2.2;以及

B.具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:

R3eHfSiO(4-e-f)/2

其中每个R3为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烷基基团,前提条件是在一个分子中,所有R3基团的至少20摩尔百分比为甲基基团,并且选择e和f使得1.0e2.2;0.002f1;并且1.0e+f3.0;

其中组分(II)(A)和(II)(B)为以一定量存在于所述甲基组分中以提供0.3至5的(II)(B)中硅键合的氢原子与(II)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比;以及

(III)硅氢加成催化剂;

其中基于组分(I)和(II)的总重量计,组分(I)以0.15重量%至21.0重量%的量存在于所述组合物中。

2.根据权利要求1所述的组合物,其中:(i)当固化以得到固化产物时,所述固化产物在暴露于光时表现出透射光的漫射;或者(ii)组分(I)(A)包含混合物,所述混合物包含:

(A)(i)具有平均公式的直链的有机聚硅氧烷:

Ra’SiO(4-a’)/2

其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a'使得1.9≤a'≤2.2;以及

(A)(ii)具有平均公式的树脂状有机聚硅氧烷:

Ra”SiO(4-a”)/2

其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比为芳基基团,并且其中选择a”使得0.5≤a”≤1.7;或(iii):(i)和(ii)两者。

3.一种制备根据权利要求1或2所述的组合物的方法,所述方法包括:

将组分(I)(A)、(I)(B)、(II)(A)、(II)(B)和(III)组合以得到所述组合物。

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