[发明专利]组合物、光漫射器和由其形成的装置以及相关方法有效

专利信息
申请号: 201780073116.X 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN109983094B 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: D·A·卡德莱茨;T·赛德拉姆;K·范蒂格伦 申请(专利权)人: 美国陶氏有机硅公司
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C08G77/12;C08G77/20;C08L83/04;C08G77/00;H01L23/29;H01L33/56
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭辉;陈哲锋
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 组合 漫射 形成 装置 以及 相关 方法
【说明书】:

本发明公开了一种组合物,所述组合物包含(I)芳基组分;(II)甲基组分;以及(III)硅氢加成催化剂。所述(I)芳基组分包含(A)有机聚硅氧烷和(B)有机氢聚硅氧烷。类似地,所述(II)甲基组分包含(A)有机聚硅氧烷和(B)有机氢聚硅氧烷。本发明还公开了一种制备组合物的方法。此外,本发明公开了一种制备制品(例如,光漫射器)的方法和包括所述光漫射器的照明装置。最后,本发明公开了一种用所述光漫射器漫射透射光的方法。

相关专利申请的交叉引用

本专利申请要求2016年12月9日提交的美国临时专利申请62/432,041的优先权和所有优点,该临时专利申请的内容以引用方式并入本文。

技术领域

本发明整体涉及组合物,并且更具体地涉及形成具有优异物理特性的制品的组合物以及相关方法、制品和发光装置。

背景技术

漫射制品是本领域已知的,并且用于各种应用和最终用途中。例如,许多光学装置应用,诸如光漫射器和照明装置,依赖于漫射制品来引导、反射和/或漫射光。

使漫射制品相关的成本最小化的一种尝试涉及利用具有足够高填料负载的聚合物材料,例如氧化钛。另一种尝试涉及使漫射制品的表面纹理化以漫射透射光。但是,这些方法会引入额外的工序和成本,并影响其它性能特性。

发明内容

本发明提供了一种组合物。所述组合物包含(I)芳基组分,所述芳基组分包含(A)具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:

RaSiO(4-a)/2

其中每个R为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R基团中的至少20摩尔百分比(%)为芳基基团,并且其中选择a使得0.5≤a≤2.2。所述组合物的(I)芳基组分还包含(B)具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:

R1bHcSiO(4-b-c)/2

其中每个R1为独立选择的不含烯键式不饱和度的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,所有R1基团的至少5摩尔百分比(%)为芳基基团,并且选择b和c使得1.0<b<2.2;0.002<c<1;并且1.0<b+c<3.0。组分(I)(A)和(I)(B)以一定量存在于所述芳基组分中,以提供0.3至5的组分(I)(B)中硅键合的氢原子对组分(I)(A)中烯键式不饱和基团的摩尔比。所述组合物包含(II)甲基组分,所述甲基组分包含(A)具有以下平均公式的有机聚硅氧烷:

R2dSiO(4-d)/2

其中每个R2为独立选择的取代或未取代的烃基基团,前提条件是在一个分子中,R2中的至少两者包括烯键式不饱和度,并且所有R2基团中的至少20摩尔百分比(%)为甲基基团,并且其中选择d使得0.5≤d≤2.2。所述组合物的(II)甲基组分还包含(B)具有以下平均公式的有机氢聚硅氧烷:

R3eHfSiO(4-e-f)/2

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