[发明专利]自动光学检测设备的校准方法及自动修复系统

权利要求书

1.一种自动光学检测设备的校准方法，其特征在于，包括：

获取修复设备已修复的基板制程缺陷的偏移信息；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；

统计所述偏移信息，得到平均偏移量；

根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第二镜头用于采集基板制程缺陷的坐标，所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷；

所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头，包括：

根据所述平均偏移量确定校准所述第二镜头时所述第二镜头的位移矢量，并根据所述位移矢量校准所述第二镜头的位置，所述位移矢量与所述平均偏移量的大小相同，方向相反。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头，包括：

当所述平均偏移量的模小于或等于指定的校准极限值时，根据所述平均偏移量校准所述第二镜头采集的基板制程缺陷的坐标；

当所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值时，输出提示信息；所述提示信息用于提示校准所述第二镜头的位置。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：

统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的数目；

当所述数目大于预设数目时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述方法，还包括：

统计所述偏移信息中偏移量为空的数据的占比；

当所述占比大于预设占比时，确定所述平均偏移量的模大于指定的校准极限值。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述偏移信息中包括偏移量为空的数据；所述偏移量为空的数据指示对应的基板制程缺陷超出所述第一镜头的视野范围；所述统计所述偏移信息，得到平均偏移量，包括：

滤除所述偏移信息中偏移量为空的数据，得到过滤后的偏移信息；

基于所述过滤后的偏移信息进行统计，获得所述平均偏移量。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的所述第二镜头之前，还包括：

确定当前时间符合指定的时间周期。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法，还包括：

记录所述修复设备修复基板制程缺陷时基板制程缺陷的坐标的偏移量；

根据记录的基板制程缺陷的坐标的偏移量更新所述偏移信息。

8.一种自动修复系统，其特征在于，包括：修复设备与自动光学检测设备；

所述修复设备，用于获取已修复的基板制程缺陷的偏移信息，并统计所述偏移信息，得到平均偏移量；所述偏移信息包括所述基板制程缺陷的坐标与所述修复设备的第一镜头的中心的坐标之间的偏移量；

所述自动光学检测设备，用于根据所述平均偏移量校准所述自动光学检测设备中的第二镜头；所述第一镜头用于根据所述基板制程缺陷的坐标修复所述基板制程缺陷；

所述自动光学检测设备，还用于根据所述平均偏移量确定校准所述第二镜头时所述第二镜头的位移矢量，并根据所述位移矢量校准所述第二镜头的位置，所述位移矢量与所述平均偏移量的大小相同，方向相反。