[发明专利]可分离的衬底结构及其制备方法

说明书

本发明涉及一种可分离的衬底结构及其制备方法。上述可分离的衬底结构的制备方法包括以下步骤：提供支撑基底；在支撑基底上形成图案化的疏水膜，疏水膜具有图案区域和空白区域；以及在疏水膜的空白区域形成柔性基底，得到可分离的衬底结构。上述可分离的衬底结构的制备方法中，疏水膜将柔性基底限定在疏水膜的空白区域位置，减小了柔性基底与支撑基底的接触面积。从而减小了柔性基底对支撑基底的应力，能够避免支撑基底发生翘曲，提高后续图形化过程中的对位精准度以及图形化精度。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种可分离的衬底结构及其制备方法。

背景技术

近年来，具有柔性基底的显示装置因其可弯曲的特性，在移动或者手持显示装置中具有广泛的应用前景。塑料基底(例如具有优异的耐热性和强度的聚酰亚胺基底、聚醚砜基底等)常被用作柔性基底。

当利用柔性基底制造显示装置时，为了确保柔性基底的表面平整性，可以使用刚性基板(诸如玻璃基板)作为支撑基底来形成柔性基底。然而，由于柔性基底的应力较大，支撑基底在柔性基底的应力作用下会发生翘曲，导致后续图形化过程中对位不精准。

发明内容

基于此，有必要针对如何避免支撑基底翘曲的问题，提供一种能够避免支撑基底翘曲的可分离的衬底结构及其制备方法。

一种可分离的衬底结构的制备方法，包括以下步骤：

提供支撑基底；

在所述支撑基底上形成图案化的疏水膜，所述疏水膜具有图案区域和空白区域；以及

在所述疏水膜的空白区域形成柔性基底，得到可分离的衬底结构。

上述可分离的衬底结构的制备方法中，疏水膜将柔性基底限定在疏水膜的空白区域位置，减小了柔性基底与支撑基底的接触面积。从而减小了柔性基底对支撑基底的应力，能够避免支撑基底发生翘曲，提高后续图形化过程中的对位精准度以及图形化精度。

在其中一个实施例中，在所述疏水膜的空白区域形成柔性基底的操作为：

在所述疏水膜上涂布用于形成所述柔性基底的前驱体溶液，所述前驱体溶液固化之后形成所述柔性基底。

在其中一个实施例中，采用溅射工艺在所述支撑基底上形成图案化的疏水膜。

此外，还提供一种可分离的衬底结构，包括：

支撑基底；

疏水膜，设置在所述支撑基底上，所述疏水膜具有图案区域和空白区域；以及

柔性基底，设置在所述支撑基底上，且所述柔性基底位于所述疏水膜的空白区域内。

本发明的可分离的衬底结构，疏水膜将柔性基底限定在疏水膜的空白区域位置，减小了柔性基底与支撑基底的接触面积。从而减小了柔性基底对支撑基底的应力，能够避免支撑基底发生翘曲，提高后续图形化过程中的对位精准度以及图形化精度。

在其中一个实施例中，所述疏水膜的材质选自具有疏水性的金属氮化物和金属氧化物中的至少一种。

在其中一个实施例中，所述疏水膜的厚度为50nm～800nm。

在其中一个实施例中，所述疏水膜的表面粗糙度为5nm～50nm。

在其中一个实施例中，所述疏水膜的水接触角为100°～170°。

在其中一个实施例中，所述柔性基底与所述支撑基底的面积比为1:2～4:5。

在其中一个实施例中，所述柔性基底的材质为聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯或者聚醚砜。

附图说明