[发明专利]PECVD反应腔以及用于PECVD反应腔的支撑针

权利要求书

1.一种支撑针，用于反应腔中，其特征在于，包括：

针芯；

针套，包覆于所述针芯之外；以及

至少一层垫片，设置在所述针芯和所述针套的底部；

其中所述针芯与所述垫片对应所述针芯以及所述针套的部分为导电材质，所述针套为非导电材质。

2.根据权利要求1所述的支撑针，其特征在于，还包括：

针帽，位于所述针芯以及所述针套的顶部之上，所述针帽位于基座的一第一容置槽中，且所述基座上还开设有一与所述第一容置槽贯穿的第二容置槽，用于容纳所述针芯和所述针套，所述第一容置槽的面积大于所述第二容置槽的面积；

其中所述针帽为导电材质。

3.根据权利要求2所述的支撑针，其特征在于，还包括：

滚筒套，包覆于所述针套之外，所述滚筒套还位于所述第二容置槽中，且所述滚筒套的长度大于等于所述基座的厚度。

4.根据权利要求3所述的支撑针，其特征在于，位于所述第二容置槽中的部分所述滚筒套中还包括：多个滚筒，用于改变所述针帽的顶面相对于所述基座的上表面的高度。

5.根据权利要求2所述的支撑针，其特征在于，所述针芯、所述针帽和所述垫片对应所述针芯以及所述针套的部分的材质为金属。

6.根据权利要求3所述的支撑针，其特征在于，所述针芯、所述针帽和所述垫片对应所述针芯以及所述针套的部分的材质为铝。

7.根据权利要求1所述的支撑针，其特征在于，所述针套的材质为陶瓷。

8.根据权利要求1所述的支撑针，其特征在于，所述针芯接地。

9.一种等离子体增强化学的气相沉积PECVD反应腔，其特征在于，包括：

腔体；

基座，用于承载样品，并设置有第一容置槽；以及

至少两个权利要求1～8中任一项所述的支撑针，所述支撑针的底部通过至少一层垫片固定在所述腔体上，所述支撑针的顶部位于所述第一容置槽中。

10.根据权利要求9所述的气相沉积PECVD反应腔，其特征在于，所述支撑针接地。