[发明专利]离子生成装置

权利要求书

1.一种离子生成装置，其特征在于，具备：

电弧室，内部具有等离子体生成区域；

阴极，朝向所述等离子体生成区域放出热电子；

反射极，隔着所述等离子体生成区域与所述阴极轴向对置；以及

屏蔽罩，在所述电弧室的内面与所述等离子体生成区域之间的位置，以部分包围所述等离子体生成区域的方式配置，

所述屏蔽罩具有以在与所述轴向正交的径向上生成横切所述屏蔽罩的气流的方式配置的多个开口或者多个间隙。

2.根据权利要求1所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩避开所述等离子体生成区域与所述阴极之间的位置以及所述等离子体生成区域与所述反射极之间的位置而配置。

3.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述电弧室具有电弧室主体和设置有用于向所述电弧室外引出离子的前狭缝的狭缝部件，

所述屏蔽罩避开所述等离子体生成区域与所述前狭缝之间的位置而配置。

4.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩固定在所述狭缝部件的内面，且离开所述电弧室主体的内面而配置。

5.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩以与所述狭缝部件成为相同电位的方式构成。

6.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩固定在所述电弧室主体的内面，且离开所述狭缝部件的内面而配置。

7.根据权利要求6所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩以与所述电弧室主体成为相同电位的方式构成。

8.根据权利要求6所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩经由绝缘部件固定在所述电弧室主体的内面，且以与所述电弧室主体成为不同的电位的方式构成。

9.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述狭缝部件经由绝缘部件安装于所述电弧室主体，

所述电弧室主体以相对于所述狭缝部件的电位成为负电位的方式构成。

10.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述狭缝部件经由绝缘部件安装于所述电弧室主体，

所述电弧室主体以相对于所述狭缝部件的电位成为浮动电位的方式构成。

11.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

还具备冷却所述电弧室主体的冷却机构。

12.根据权利要求3所述的离子生成装置，其特征在于，

所述前狭缝在所述轴向上具有细长的形状，

所述屏蔽罩至少遍及所述前狭缝在所述轴向上延伸的区间配置。

13.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩在所述轴向上观察以V字形、U字形、C字形或者コ字形形成。

14.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩以从所述径向俯视观察时每单位面积所述多个开口或者所述多个间隙所占比例为30％以上且90％以下的方式构成。

15.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩包括在所述轴向上隔着间隔排列的多个线状部件。

16.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩包括网眼状部件。

17.根据权利要求1或2所述的离子生成装置，其特征在于，

所述屏蔽罩包括设置有多个小孔的板状部件。