[发明专利]光刻装置和制造物品的方法

权利要求书

1.一种能操作以在基板上执行图案化的光刻装置，其特征在于，所述光刻装置包括：

台，被配置为在保持上面形成有标记的基板的同时能移动；

成像设备，被配置为对形成在由所述台保持的基板上的标记进行成像以获得标记的图像；

处理器，被配置为处理所述图像以获得标记的位置；和

图案化设备，被配置为在由所述台保持的基板上执行图案化，所述台基于由所述处理器获得的所述标记的位置移动，

其中处理器

基于通过第一处理获得的标记的位置执行第二处理，所述第一处理用于通过第一模板匹配获得标记的位置，所述第二处理通过第二模板匹配获得标记的位置，所述第二模板匹配比第一模板匹配对于获得标记的位置具有更高的精度，并且

基于在第二处理中获得的标记的位置执行第三处理，所述第三处理用于执行第一处理中的第一模板匹配中使用的模板的改变以获得要由第一处理在第一模板匹配中使用的模板。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述处理器在所述第二处理中在所述图案化设备正在执行图案化的同时获得所述标记的位置。

3.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述处理器在所述第三处理中执行所述改变以使得通过所述第一处理获得的所述标记的位置接近通过所述第二处理获得的所述标记的位置。

4.根据权利要求3所述的光刻装置，其中，所述处理器在所述第三处理中执行所述改变以使得所述标记和所述模板之间的相关度超过阈值，并且通过所述第二处理获得的所述标记的位置与通过所述第一处理获得的所述标记的位置的偏差落在允许范围内。

5.根据权利要求4所述的光刻装置，其中，所述处理器基于图案化所需的时间量中止所述第三处理。

6.根据权利要求5所述的光刻装置，其中，响应于在中止所述第三处理之前所述相关度未超过所述阈值或者所述偏差未落在所述允许范围内，所述处理器输出指示与所述第一处理有关的错误的信息。

7.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述处理器在所述第三处理中改变用于配置所述模板的特征点数量。

8.根据权利要求1所述的光刻装置，其中，所述第二模板匹配包括彼此不同的多个模板匹配，并且所述第二处理获得通过所述多个模板匹配分别获得的所述标记的多个位置的平均值作为所述标记的位置。

9.根据权利要求8所述的光刻装置，其中，所述处理器在所述第二处理中，响应于通过所述多个模板匹配分别获得的所述标记的多个位置的变化未落在允许范围内，输出指示与所述第二处理有关的错误的信息。

10.一种制造物品的方法，其特征在于，所述方法包括：

基于形成在基板上的标记的位置移动保持所述基板的台，以及通过使用根据权利要求1至9中任一项所述的光刻装置在由所述台保持的所述基板上执行图案化；和

执行上面形成有图案的基板的处理，

其中，所述物品由被执行了所述处理的所述基板制造。