[发明专利]光刻装置和制造物品的方法

说明书

公开了光刻装置和制造物品的方法。在执行图案化之前，光刻装置执行用于通过第一模板匹配获得基板上的标记的位置的第一处理，并且在基于通过第一处理获得的标记的位置执行图案化的同时，执行用于通过与第一模板匹配不同的第二模板匹配获得标记的位置的第二处理，执行第三处理，第三处理用于基于通过第二处理获得的标记的位置执行由第一处理在第一模板匹配中使用的模板的改变以获得要由第一处理在第一模板匹配中使用的模板。

技术领域

本发明涉及光刻装置和制造物品的方法。

背景技术

在用于将掩模的图案转印到基板以在基板上形成图案的光刻装置中，掩模和基板的对准是必要的。对准通常包括测量形成在基板上的标记的位置，并且可以根据使用模板的图案匹配处理(模板匹配)来执行该测量。

由于标记的形状的外观可以根据基板的处理而改变，所以为了保持测量精度，适当地调整模板是必要的。日本专利特开No.2012-69003公开了如下的方法：生成模板和搜索测试图像，使用这些来执行搜索以获得关于节拍(takt)时间和精度的参考值，基于这些参考值调整模板，以及优化节拍时间和精度。

日本专利特开No.2012-69003中公开的方法在获得参考值的情况下和调整模板的情况下执行相同的模板匹配。因此，如果对已经发生了由于模板匹配而引起的测量误差的图像执行处理，则不能获得适当的参考值。对于模板匹配，由于计算量通常随精度增加而增加，所以当使用这种模板匹配时，变得难以满足对成本或吞吐量的限制。

发明内容

本发明提供了例如有利于实现标记位置测量的精度和成本或吞吐量二者的光刻装置。

本发明在其第一方面提供了可操作以在基板上执行图案化的光刻装置，所述装置包括：台，被配置为在保持其上形成有标记的基板的同时可移动；成像设备，被配置为对形成在由所述台保持的基板上的标记进行成像以获得标记的图像；处理器，被配置为处理所述图像以获得标记的位置；和图案化设备，被配置为在由所述台保持的基板上执行图案化，所述台基于由所述处理器获得的所述标记的位置移动，其中处理器通过基于通过第一模板匹配获得标记的位置的第一处理获得的标记的位置执行第二处理，所述第二处理通过第二模板匹配获得标记的位置，所述第二模板匹配比第一模板匹配对于获得标记的位置具有更高的精度，和基于在第二处理中获得的标记的位置执行第三处理，所述第三处理用于执行第一处理中的第一模板匹配中使用的模板的改变以获得要由第一处理在第一模板匹配中使用的模板。

本发明在其第二方面中提供制造物品的方法，所述方法包括：基于形成在基板上的标记的位置移动保持所述基板的台，以及通过使用在第一方面中限定的光刻装置在由所述台保持的所述基板上执行图案化；和执行其上已经形成有图案的基板的处理，其中，所述物品由其上执行了所述处理的所述基板制造。

从以下对示例性实施例的描述中(参考附图)，本发明的其它特征将变得清楚。

附图说明

图1是用于说明曝光装置的配置的图。

图2是用于说明基板的配置的图。

图3是用于说明用于基板处理的控制流程的流程图。

图4是用于说明用于获得参考测量值的处理的流程图。

图5是用于说明用于获得对准测量条件的处理的流程图。

图6是用于说明用于确定模板的布置的处理的图。

图7是用于说明用于获得参考测量值的处理的变形例的流程图。

图8是用于说明用于确定模板的布置的处理的图。

图9是用于描述用于根据模板匹配来搜索标记的处理的图。

图10是用于说明用于获得对准测量条件的处理的变形例的流程图。