[发明专利]一种液晶化合物及液晶组合物有效

专利信息
申请号: 201810517591.8 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN110527520B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 员国良;李明;孟劲松;梁志安;温刚;李正强 申请(专利权)人: 石家庄诚志永华显示材料有限公司
主分类号: C09K19/30 分类号: C09K19/30;C09K19/44
代理公司: 北京市兰台律师事务所 11354 代理人: 刘俊清
地址: 050091 河*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 液晶 化合物 组合
【说明书】:

发明提供一种式I所示化合物,可以实现自配向功能。以及含有此类化合物的负性液晶组合物,及包含该化合物或液晶组合物的液晶显示元件或液晶显示器。式I所示化合物含有两个羟基,在面板ODF制程中,由于羟基与与面板表面(玻璃表面、ITO电极表面)的分子间作用力,会自发的站立排列在面板玻璃或ITO透明电极基板上,促使接近式I所示化合物的液晶分子垂直排列,在UV光照射下,会在基板上聚合形成一层表面粗糙的聚合物,起到PI的绝缘与对液晶分子垂直配向的效果。

技术领域

本发明数据液晶显示领域,具体涉及一种液晶化合物以及包含该液晶化合物的液晶组合物,以及包含有该液晶化合物或液晶组合物的显示元件或液晶显示器。

背景技术

VA模式等的有源矩阵寻址方式的显示元件所用的液晶介质,本身并不完美,例如残像水平要明显差于正介电各向异性的显示元件,响应时间比较慢,驱动电压比较高等缺点。此时,一些新型的VA显示技术悄然而生:像PSVA技术即实现了MVA/PVA类似的广视野角显示模式,也简化了CF工艺,从而降低CF成本的同时,提高了开口率,还可以获得更高的亮度,进而获得更高的对比度。此外,由于整面的液晶都有预倾角,没有多米诺延迟现象,在保持同样的驱动电压下还可以获得更快的响应时间,残像水平也不会受到影响,但是由于像素中Fine Slit密集分布电极,故如果电极宽度不能均匀分布,很容易出现显示不均的问题。像UVVA技术,在保持PSVA技术优势的基础上,由于在TFT侧没有Slit结构,出现像素电极宽度不均引起的显示不均问题还得到了改进。虽然显示器件在不断的发展,但是人们还要一直致力于研究新的液晶化合物,得以使液晶介质及其应用于显示器件的性能不断的向前发展。

可聚合介晶单元(RMs)目前是显示行业非常热门且重要的课题,其可能应用的领域包括聚合物稳定配向(PSA)液晶显示,聚合物稳定蓝相(PS-BP)液晶显示以及图形化位相差膜(Pattern Retarder Film)等。

PSA原理正被应用在不同典型的LC显示器中,例如PSA-VA,PSA-OCB,PS-IPS/FFS和PS-TN等液晶显示器。以目前最为广泛应用的PSA-VA显示器为例,通过PSA方法可以获得液晶盒的预倾角,该预倾角对响应时间具有积极的影响。对于PSA-VA显示器,可以使用标准的MVA或PVA像素和电极设计,但是如果在一侧的电极设计采用特殊图形化的而在另一端不采用突起的设计,可以显著的简化生产,同时使显示器得到非常好的对比度、及很高的光透过率。

现有技术已经发现LC混合物和RMs在PSA显示器中的应用方面仍具有一些缺点。例如面板制程需要涂布PI,不仅花费较大人力物力,而且会造成有机污染物的排放。

发明内容

本发明提供一种可以实现自配向功能的化合物,以及含有此类化合物的液晶组合物,及包含该化合物或液晶组合物的液晶显示元件或液晶显示器,尤其适用于显示器或TV应用的PSVA液晶组合物。

为了实现上述有益技术效果,本发明提供了一种式Ⅰ所示化合物:

其中,

R0表示碳原子数为1-10的烷基、氟取代的碳原子数为1-10的烷基、碳原子数为1-10的烷氧基、氟取代的碳原子数为1-10的烷氧基、碳原子数为2-10的链烯基、氟取代的碳原子数为2-10的链烯基、碳原子数为3-8的链烯氧基或氟取代的碳原子数为3-8的链烯氧基,且R0所示基团中任意一个或多个CH2可以被环戊基、环丁基或环丙基取代,任意一个或不相连的多个CH2可以被O取代;

q表示1或2;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于石家庄诚志永华显示材料有限公司,未经石家庄诚志永华显示材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810517591.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top