[发明专利]扫描曝光装置以及扫描曝光方法

权利要求书

1.一种扫描曝光装置，其使沿着从第一轴以第一半径弯曲的圆周面保持有光罩图案的光罩保持筒以所述第一轴为中心旋转，并且使挠性的基板在沿着表面的扫描曝光方向上移动，来将所述光罩图案曝光在所述基板的表面上，所述扫描曝光装置的特征在于，

具有：

照明光学系统，其朝向照明区域照射照明光，所述照明区域在所述光罩图案上以在所述第一轴的方向上被设定为细长的矩形状或长方形、并且在与所述扫描曝光方向对应的所述圆周面的周向上具有规定的宽度的方式设定；

投影光学系统，其将来自出现在所述照明区域内的所述光罩图案的光束朝向与所述照明区域对应的所述基板侧的投影区域投射，由此，使所述光罩图案的像以沿着根据所述第一半径而在所述扫描曝光方向上弯曲的投影像面的方式成像；和

基板支承筒，其通过从与所述第一轴平行地配置的第二轴以第二半径弯曲成圆筒面状的外周面使所述基板弯曲来支承所述基板，并且以所述第二轴为中心进行旋转，使所述基板沿着与所述扫描曝光方向对应的所述外周面的周向移动，

以使弯曲的所述投影像面与弯曲的所述基板的表面在所述投影区域内的所述扫描曝光方向上分离的两处分别相交的方式，设定了所述光罩保持筒、所述基板支承筒、以及所述投影光学系统。

2.如权利要求1所述的扫描曝光装置，其特征在于，

在将由所述投影光学系统投射在所述基板上的所述光束的所述投影区域的在所述扫描曝光方向上的中点的散焦量设为Δ、且将所述投影光学系统的焦点深度设为DOF时，以满足0.5Δ/DOF≤3的方式分别设定了所述投影光学系统、所述光罩保持筒、以及所述基板支承筒。

3.如权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，

被设定为使所述散焦量Δ与所述焦点深度DOF之间的关系满足1≤Δ/DOF≤3。

4.如权利要求2所述的扫描曝光装置，其特征在于，

通过所述投影光学系统以最佳聚焦而投影在所述投影区域内的所述光罩图案的所述投影像面与所述基板的表面的散焦量被设定为，以所述扫描曝光方向上的所述投影区域的所述中点的位置为轴而在所述扫描曝光方向上呈线对称地变化。

5.如权利要求1～4中任一项所述的扫描曝光装置，其特征在于，

所述投影光学系统具有多个分割投影光学系统，

所述分割投影光学系统在所述第一轴和所述第二轴各自延伸的方向即与所述扫描曝光方向正交的方向上配置成列状，向各个所述分割投影光学系统所对应的所述投影区域投射所述光束。

6.如权利要求5所述的扫描曝光装置，其特征在于，

多个所述分割投影光学系统在所述扫描曝光方向上至少配置有两列，且被配置成在与所述扫描曝光方向正交的方向上相邻的所述分割投影光学系统各自所对应的所述投影区域的端部彼此重叠。

7.如权利要求6所述的扫描曝光装置，其特征在于，

配置成在对多个所述分割投影光学系统各自所对应的所述投影区域的所述扫描曝光方向上的曝光宽度进行累计计算的情况下该累计计算值在与所述扫描曝光方向正交的方向上为恒定。

8.如权利要求6或者7所述的扫描曝光装置，其特征在于，

多个所述分割投影光学系统分别通过将来自所述光罩图案的所述光束的光路偏转的多个偏转构件、透镜组、和配置于光瞳面的凹面镜而构成为使戴森系统变形而得到的远心的反射折射光学系统。