[发明专利]X射线相位差成像装置有效

专利信息
申请号: 201810653082.8 申请日: 2018-06-22
公开(公告)号: CN109106387B 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 堀场日明;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;森本直树 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 射线 相位差 成像 装置
【权利要求书】:

1.一种X射线相位差成像装置,具备:

X射线源;

检测器,其检测从所述X射线源照射的X射线;

多个光栅,所述多个光栅被配置在所述X射线源与所述检测器之间;

控制部,其基于由所述检测器检测到的通过了所述多个光栅的X射线的检测信号,来生成图像;以及

光栅保持部,其用于保持所述多个光栅中的各个光栅,

其中,所述多个光栅被配置成在与X射线的光轴正交的面内所述多个光栅的光栅构成部分延伸的方向沿着因所述光栅保持部引起的位置偏移最大的方向。

2.根据权利要求1所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

所述光栅保持部还具备调整所述多个光栅的相对位置的光栅位置调整机构,

所述控制部构成为利用所述光栅位置调整机构调整所述多个光栅的相对位置,

所述光栅位置调整机构构成为在拍摄时使所述多个光栅沿着与所述光栅保持部的位置偏移最大的方向正交的方向进行相对移动。

3.根据权利要求2所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

通过分别在不同的方向上层叠使所述多个光栅移动的多个定位机构来构成所述光栅位置调整机构,

所述多个光栅被配置成所述多个光栅的光栅构成部分延伸的方向沿着所述光栅位置调整机构的总厚度最大的方向。

4.根据权利要求2所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

所述多个光栅包括第一光栅和第二光栅,其中,该第一光栅改变从所述X射线源照射的X射线的相位来产生塔尔博特干涉,该第二光栅对构成通过由所述第一光栅引起的塔尔博特干涉而生成的像的X射线的一部分进行遮蔽,

所述第一光栅和所述第二光栅被配置成在与X射线的光轴正交的面内所述第一光栅和所述第二光栅这双方的光栅构成部分延伸的方向沿着因所述光栅保持部引起的位置偏移最大的方向。

5.根据权利要求2所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

所述多个光栅包括第三光栅和第四光栅,其中,该第三光栅对从所述X射线源照射的X射线的一部分进行遮蔽,该第四光栅对构成通过利用所述第三光栅遮蔽X射线的一部分而生成的像的X射线的一部分进行遮蔽,

所述第三光栅和所述第四光栅被配置成在与X射线的光轴正交的面内所述第三光栅和所述第四光栅这双方的光栅构成部分延伸的方向沿着因所述光栅保持部引起的位置偏移最大的方向。

6.根据权利要求1所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

因所述光栅保持部引起的位置偏移至少包括因所述光栅保持部的热变形引起的位置偏移。

7.根据权利要求1所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

因所述光栅保持部引起的位置偏移的方向是在与从所述X射线源照射的X射线的光轴正交的面内将所述光栅保持部的位置偏移量分解为各不相同的两个方向后的位置偏移量中的位置偏移量大的方向。

8.根据权利要求7所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

所述X射线源、所述多个光栅以及所述检测器沿水平方向或铅垂方向排列地配置,

因所述光栅保持部引起的位置偏移的方向是在与从所述X射线源照射的X射线的光轴正交的面内所述检测器的纵向和横向这两个方向中的所述光栅保持部的位置偏移量大的方向。

9.根据权利要求1所述的X射线相位差成像装置,其特征在于,

所述多个光栅还包括第五光栅,该第五光栅用于通过对从所述X射线源照射的X射线的一部分进行遮蔽来提高X射线的空间上的相干性。

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