[发明专利]X射线成像装置以及X射线成像图像的合成方法有效
申请号: | 201810654573.4 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN109106388B | 公开(公告)日: | 2022-06-03 |
发明(设计)人: | 佐野哲;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;森本直树 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 成像 装置 以及 图像 合成 方法 | ||
1.一种X射线成像装置,具备:
X射线源;
检测器,其检测从所述X射线源照射的X射线;
多个光栅,所述多个光栅配置在所述X射线源与所述检测器之间,包括被照射来自所述X射线源的所述X射线的第一光栅和被照射通过了所述第一光栅的所述X射线的第二光栅;以及
图像处理部,其根据由所述检测器检测到的X射线的强度分布来生成包括吸收像的第一图像以及在与所述第一图像相同的配置下拍摄到的包括吸收像以外的像的第二图像,
其中,所述图像处理部构成为:基于将所述多个光栅和被摄体配置成第一相对位置和第二相对位置后拍摄到的图像中的、所述第一相对位置时的所述第一图像中的被摄体的位置与所述第二相对位置时的所述第一图像中的被摄体的位置之间的差异量,来进行所述第一相对位置时的所述第二图像与所述第二相对位置时的所述第二图像的位置对准,
其中,所述第一相对位置和所述第二相对位置是所述多个光栅和所述被摄体之间的、沿着绕所述X射线的光轴方向的旋转方向的旋转移动量彼此不同的相对位置。
2.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:通过进行所述第一相对位置时的所述第一图像与所述第二相对位置时的所述第一图像的位置对准,来获取作为所述被摄体的位置的差异量的所述第一图像的移动量。
3.根据权利要求2所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:通过根据所述第一相对位置和所述第二相对位置时的所述第一图像中的被摄体的形状信息进行拟合,来进行所述第一图像的位置对准,获取通过所述拟合进行位置对准时的所述第一图像的所述移动量,使所述第二图像移动与获取到的所述移动量相同的量。
4.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述第二图像是暗视场像和相位微分像中的任一方。
5.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述第一相对位置是将所述多个光栅和被摄体配置成被摄体相对于所述多个光栅的光栅图案呈规定方向的相对位置,
所述第二相对位置是将所述多个光栅和被摄体配置成被摄体相对于所述多个光栅的光栅图案的朝向与所述第一相对位置时的朝向不同的相对位置。
6.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
还具备旋转机构,该旋转机构使被摄体和摄像系统中的任一方沿着绕与所述X射线的光轴方向正交的垂直方向的轴线的旋转方向进行相对旋转,所述摄像系统包括所述X射线源、所述检测器以及所述多个光栅,
所述第一图像和所述第二图像各自包括三维图像。
7.根据权利要求6所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:根据在彼此各不相同的六轴方向上除了所述第一相对位置和所述第二相对位置以外还在第三相对位置、第四相对位置、第五相对位置以及第六相对位置的各相对位置时分别使被摄体或所述摄像系统旋转来进行拍摄所得到的图像,生成所述第一图像和所述第二图像,所述第三相对位置、所述第四相对位置、所述第五相对位置以及所述第六相对位置被配置为被摄体相对于所述多个光栅的光栅图案的朝向不同。
8.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:将所述第一相对位置和所述第二相对位置时的所述第二图像进行合成,在合成图像中以能够区分的方式显示所述X射线的扩散方向不同的区域。
9.根据权利要求1所述的X射线成像装置,其特征在于,
所述图像处理部构成为:基于设置于被摄体的X射线高吸收性的标记来进行所述第一图像的位置对准。
10.一种X射线成像图像的合成方法,包括以下步骤:
将多个光栅和被摄体配置成第一相对位置和第二相对位置,来拍摄包括吸收像的第一图像和包括吸收像以外的像的第二图像;
获取所述第一相对位置时的所述第一图像与所述第二相对位置时的所述第一图像之间的移动量;以及
基于所述第一图像的移动量进行所述第二图像的位置对准,
其中,所述第一相对位置和所述第二相对位置是所述多个光栅和所述被摄体之间的、沿着绕所述X射线的光轴方向的旋转方向的旋转移动量彼此不同的相对位置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社岛津制作所,未经株式会社岛津制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810654573.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:X射线相位差成像装置
- 下一篇:一种X射线曝光指数范围生成方法和X射线系统