[发明专利]一种印刷镀膜工艺在审

专利信息
申请号: 201810863369.3 申请日: 2018-08-01
公开(公告)号: CN108914066A 公开(公告)日: 2018-11-30
发明(设计)人: 王春生;林磊;张荣晋;孙爽 申请(专利权)人: 苏州安洁科技股份有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/08;C23C14/10;B41M1/30
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 杜丹盛
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜工艺 印刷 镀膜 表面印刷 产品表面 蒸发镀膜 透过率 组合膜 增透 油墨 客户
【说明书】:

发明提供了一种印刷镀膜工艺,其使得pmma板材对于光有选择性的透过,达到客户的要求。其在普通的pmma板材表面印刷一层增透的IR油墨,使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行镀膜,其中镀膜具体为通过蒸发镀膜在产品表面镀TIO2和SIO2的组合膜。

技术领域

本发明涉及板材表面镀膜的技术领域,具体为一种印刷镀膜工艺。

背景技术

pmma板材,俗称有机玻璃,在现有的制作中,有的客户提出尽量提高波长为700-1500nm的光的透过率,而尽量减少波长0-700nm的光的透过率,现有技术暂时无法解决。

发明内容

针对上述问题,本发明提供了一种印刷镀膜工艺,其使得pmma板材对于光有选择性的透过,达到客户的要求。

一种印刷镀膜工艺,其特征在于:其在普通的pmma板材表面印刷一层增透的IR油墨,使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行镀膜,其中镀膜具体为通过蒸发镀膜在产品表面镀TIO2和SIO2的组合膜。

其进一步特征在于:所述IR油墨的厚度为0.02mm;

所述IR油墨印刷时,其保持恒温18℃~23℃、恒湿55%-65%的工艺条件;

所述蒸发镀膜的工艺条件为:温度50℃、真空度为高真空3.0*10-5torr;

所述蒸发镀膜所获得的膜厚为200nm~300nm;

最终成型的产品的光透过率条件如下:0-700nm波长的光透过率<3%、700-1500nm波长的光透过率>92%。

采用本发明后,由于其在普通的pmma板材表面印刷一层增透的IR油墨,使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行镀膜,其中镀膜具体为通过蒸发镀膜在产品表面镀TIO2和SIO2的组合膜;其使得印刷镀膜后的产品的光透过率条件如下:0-700nm波长的光透过率<3%、700-1500nm波长的光透过率>92%,产品完全满足客户需求。

具体实施方式

一种印刷镀膜工艺:其在普通的pmma板材表面印刷一层增透的IR油墨印刷,使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行镀膜,其中镀膜具体为通过蒸发镀膜在产品表面镀TIO2和SIO2的组合膜。

IR油墨的厚度为0.02mm;

IR油墨印刷时,其保持恒温18℃~23℃、恒湿55%~65%的工艺条件;

蒸发镀膜的工艺条件为:温度50℃、真空度为高真空3.0*10-5torr;

蒸发镀膜所获得的膜厚为200nm~300nm;

最终成型的产品的光透过率条件如下:0-700nm波长的光透过率<3%、700-1500nm波长的光透过率>92%。

具体实施例一:其在普通的pmma板材表面印刷一层0.02mm的增透的IR油墨,工艺条件为恒温18℃、恒湿55%,其使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行蒸发镀膜,蒸发镀膜的工艺条件为:温度50℃、真空度为高真空3.0*10-5torr;蒸发镀膜所获得的TIO2和SIO2的组合膜的膜厚为200nm。

具体实施例二:其在普通的pmma板材表面印刷一层0.02mm的增透的IR油墨,工艺条件为恒温23℃、恒湿65%,其使得产品的红外透过率达到89%,再对印刷完的pmma产品进行蒸发镀膜,蒸发镀膜的工艺条件为:温度50℃、真空度为高真空3.0*10-5torr;蒸发镀膜所获得的TIO2和SIO2的组合膜的膜厚为300nm。

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