[发明专利]阵列基板及其制作方法、彩膜基板、显示面板和显示装置在审
| 申请号： | 201810915456.9 | 申请日： | 2018-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN108761885A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 高云;陈强;杨峰;王晓杰;李晓锦;任伟;杨静;彭艳召 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1362;G02F1/1335;H04N5/225;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 赵天月 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 镜头区 显示区 阵列基板 显示面板 显示装置 基板 彩膜基板 同层设置 美观效果 封框胶 液晶层 有效地 制作 占用 | ||
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：
基板，所述基板上有显示区和镜头区，且所述镜头区设置在所述显示区的一侧；
多个TFT单元，所述多个TFT单元设置在所述显示区；
CCD传感器，所述CCD传感器设置在所述镜头区，并且，所述CCD传感器与所述TFT单元是同层设置的。
2.根据权利要求1所述阵列基板，其特征在于，所述CCD传感器由多个MOS单元组成，所述MOS单元的第一栅极、第一栅绝缘层和第一源漏电极分别与所述TFT单元的第二栅极、第二栅绝缘层和第二源漏电极是同层设置的，形成所述MOS单元的N区的材料与形成所述TFT单元的有源层的导体部分的材料相同。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述镜头区的长度和宽度各自独立地不大于5mm。
4.一种制作阵列基板的方法，其特征在于，包括：
提供基板，所述基板上限定有显示区和镜头区，且所述镜头区在所述显示区的一侧；
在所述显示区形成多个TFT单元；
在所述镜头区形成CCD传感器，并且，所述CCD传感器的至少部分与所述TFT单元的至少部分是通过一次工艺形成的。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述CCD传感器由多个MOS单元组成，其中，所述MOS单元的N区与所述TFT单元的有源层的导体部分是通过一次离子注入形成的。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述MOS单元的第一栅极、第一栅绝缘层和第一源漏电极分别与所述TFT单元的第二栅极、第二栅绝缘层和第二源漏电极是通过一次构图工艺形成的。
7.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板上设有镜头区，所述镜头区包括CCD区，且所述镜头区中除所述CCD区以外的区域设置有遮光层。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板在所述镜头区内不设置配向膜。
9.一种显示面板，其特征在于，包括：
权利要求1～3中任一项所述的阵列基板；
权利要求7～8中任一项所述的彩膜基板，且所述彩膜基板与所述阵列基板对盒设置；
液晶层，所述液晶层设置在所述阵列基板与所述彩膜基板之间。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：
权利要求9所述的显示面板；
透明盖板，所述透明盖板设置在所述彩膜基板的一侧，且所述透明盖板具有通孔，所述通孔在所述彩膜基板上的正投影被所述镜头区完全覆盖，并且，所述通孔中设置有光学镜头组件。
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