[发明专利]一种掩膜板及其张网方法、张网装置

权利要求书

1.一种掩膜板的张网方法，其特征在于，该方法包括：

根据蒸镀工艺中蒸镀腔室内的形变条件，使得待制作的掩膜板发生形变；其中，根据蒸镀工艺中蒸镀腔室内的形变条件，使得待制作的掩膜板发生形变具体包括：调节环境温度并保持所述环境温度等于蒸镀工艺中蒸镀腔室内的蒸镀温度，使得所述掩膜板受到热应力发生形变；提供使得所述掩膜板发生下垂的磁场，使得所述掩膜板的下垂量等于蒸镀工艺中所述掩膜板的下垂量；

保持所述环境温度等于蒸镀工艺中蒸镀腔室内的蒸镀温度，保持所述磁场的当前磁感应强度，对发生形变的所述掩膜板进行张网、对位以及焊接。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，提供使得所述掩膜板发生下垂的磁场，使得所述掩膜板的下垂量等于蒸镀工艺中所述掩膜板的下垂量，具体包括：

提供磁感应强度逐渐增加的磁场，并检测所述掩膜板的下垂量，当所述掩膜板的下垂量等于蒸镀工艺中所述掩膜板的下垂量时，保持所述磁场的当前磁感应强度。

3.一种掩膜板，其特征在于，采用根据权利要求1～2任一项所述的掩膜板的张网方法制得。

4.一种掩膜版的张网装置，其特征在于，该装置包括：形变调节机构，以及张网对位焊接机构；所述形变调节机构用于根据蒸镀腔室内的形变条件，使得待制作的掩膜板发生形变；所述张网对位焊接机构用于对发生形变的所述掩膜板进行张网、对位、焊接；

所述形变调节机构包括温度调节单元以及温度检测单元；所述温度检测单元用于实时检测环境温度；所述温度调节单元用于调节所述环境温度并保持所述环境温度等于所述蒸镀温度；

所述形变调节机构包括磁力调节单元以及掩膜板下垂量检测单元；所述掩膜板下垂量检测单元用于检测所述掩膜板的下垂量；所述磁力调节单元用于提供使得所述掩膜板发生下垂的磁场，并用于调节所述磁场的磁感应强度使得所述掩膜板的下垂量等于蒸镀工艺中所述掩膜板的下垂量。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述磁力调节单元位于所述掩膜板的沿其重力方向的下方。

6.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，所述磁力调节单元包括永磁体部件和/或电磁体部件。