[发明专利]显影单元清洁装置及采用该装置的清洁方法

权利要求书

1.一种显影单元清洁装置，应用于一曝光系统，所述曝光系统包括一基板清洁单元、一基板涂布单元、一基板曝光单元和一基板显影单元；所述基板清洁单元用于对一基板进行清洁，并且将清洁后的基板传送至所述基板涂布单元；所述基板涂布单元通过一设置在所述基板涂布单元中的光阻涂布机构对基板进行涂布光阻，并且将涂布过光阻的基板传送至所述基板曝光单元；所述基板曝光单元用于通过掩模曝光制程对光阻定义图形，以执行曝光操作，并且在执行曝光操作之后，将基板传送至所述基板显影单元；所述基板显影单元用于通过显影制程对定义好图形的光阻进行显影，以形成图形化的光阻；其特征在于，所述显影单元清洁装置安装在所述曝光系统中，所述显影单元清洁装置分别连接至所述基板涂布单元和所述基板显影单元；所述显影单元清洁装置用于将所述基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液传送至所述基板显影单元，并且对设置在所述基板显影单元中的显影槽进行清洁。

2.根据权利要求1所述的显影单元清洁装置，其特征在于，所述光阻溶剂废液为树脂溶液。

3.根据权利要求1所述的显影单元清洁装置，其特征在于，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体和管路，所述管路包括第一管路和第二管路，所述第一管路连接分别连接至所述基板涂布单元的输出端和所述临时储存槽体的输入端，所述第二管路连接分别连接至所述临时储存槽体的输出端和所述显影槽的输入端；所述临时储存槽体用于储存所述基板涂布单元所产生的光阻溶剂废液，并且提供至所述显影槽。

4.根据权利要求3所述的显影单元清洁装置，其特征在于，在所述第一管路上设置有一第一开关阀，所述第一开关阀用于控制从所述基板涂布单元至所述临时储存槽体的光阻溶剂废液的流量。

5.根据权利要求3所述的显影单元清洁装置，其特征在于，在所述临时储存槽体上设置有一第二开关阀，所述第二开关阀用于将储存在所述临时储存槽体内的光阻溶剂废液排放至外部的厂务设备。

6.根据权利要求3所述的显影单元清洁装置，其特征在于，在所述第二管路上设置有一第三开关阀，所述第三开关阀用于控制从所述临时储存槽体至所述显影槽的光阻溶剂废液的流量。

7.根据权利要求3所述的显影单元清洁装置，其特征在于，所述第二管路为可拆卸的管路，所述第二管路还用于将所述临时储存槽体可拆卸连接至所述曝光系统的其他单元。

8.一种显影单元清洁方法，采用权利要求1所述的显影单元清洁装置，所述显影单元清洁装置包括一临时储存槽体和管路，所述管路包括第一管路和第二管路，其特征在于，所述方法包括：

(a)基板涂布单元在对基板进行涂布光阻后产生光阻溶剂废液；

(b)将光阻溶剂废液通过第一管路传送至临时储存槽体并进行储存；

(c)将储存在所述临时储存槽体内的光阻溶剂废液通过第二管路提供至显影槽，以清洁所述显影槽。

9.根据权利要求8所述的显影单元清洁方法，其特征在于，在所述第一管路上设置有一第一开关阀；所述方法在步骤(b)中进一步包括：

通过第一开关阀控制从所述基板涂布单元至所述临时储存槽体的光阻溶剂废液的流量。

10.根据权利要求8所述的显影单元清洁方法，其特征在于，在所述第二管路上设置有一第三开关阀；所述方法在步骤(c)中进一步包括：

通过第三开关阀控制从所述临时储存槽体至所述显影槽的光阻溶剂废液的流量。