[发明专利]半导体基板结构及其制造方法有效
申请号: | 201811181955.6 | 申请日: | 2018-10-11 |
公开(公告)号: | CN110875334B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 卢智宏;蔡明洁;张杰雄 | 申请(专利权)人: | 奕力科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 吴志红;臧建明 |
地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 板结 及其 制造 方法 | ||
1.一种半导体基板结构,包括:
半导体元件基板,具有主动面以及位于所述主动面上的多个凹陷;以及
黏着组件,包括黏着层以及底膜,且所述黏着层填入所述多个凹陷中,以使所述半导体元件基板与所述黏着组件彼此接合,
其中所述半导体元件基板包括多个集成电路,所述多个集成电路中的每一个包括主动元件及后段内连线区,所述主动元件与所述后段内连线区电性连接,所述多个凹陷的深度小于所述多个集成电路的厚度,且所述多个凹陷的深度大于所述后段内连线区的厚度,所述多个凹陷的底面不超过所述主动元件的底面,其中相邻的所述多个集成电路之间具有所述多个凹陷的其中至少一个。
2.根据权利要求1所述的半导体基板结构,其中所述多个凹陷为多个孔洞。
3.根据权利要求1所述的半导体基板结构,其中所述多个凹陷为多个沟槽。
4.根据权利要求1所述的半导体基板结构,其中所述多个集成电路于所述主动面上的投影不重叠于所述多个凹陷于所述主动面上的投影。
5.根据权利要求1所述的半导体基板结构,其中所述半导体元件基板包括多个以阵列方式排列的集成电路。
6.根据权利要求1所述的半导体基板结构,其中所述半导体元件基板的尺寸大于或等于所述黏着组件的尺寸。
7.一种半导体基板结构的制造方法,包括:
提供半导体元件基板,具有主动面,其中所述半导体元件基板包括多个集成电路,所述多个集成电路中的每一个包括主动元件及后段内连线区,所述主动元件与所述后段内连线区电性连接;
形成多个凹陷于所述半导体基板的所述主动面上,其中所述多个凹陷的深度小于所述多个集成电路的厚度,且所述多个凹陷的深度大于所述后段内连线区的厚度,所述多个凹陷的底面不超过所述主动元件的底面,其中相邻的所述多个集成电路之间具有所述多个凹陷的其中至少一个;
提供黏着组件,包括黏着层以及底膜;以及
以所述黏着层面向所述主动面将所述黏着组件与所述半导体元件基板接合,且所述黏着层填入所述多个凹陷中。
8.根据权利要求7所述的半导体基板结构的制造方法,还包括:
将所述黏着组件与所述半导体元件基板接合之后,薄化所述半导体元件基板。
9.根据权利要求7所述的半导体基板结构的制造方法,其中薄化所述半导体元件基板的步骤包括:研磨所述半导体元件基板相对于所述主动面的表面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的