[发明专利]黄光制程曝光偏移校正方法及装置

权利要求书

1.一种黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，包括以下步骤：

测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；

获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；

根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；

根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。

2.根据权利要求1所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于：

所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；

所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；

所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

3.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：

储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

4.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：

当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。

5.根据权利要求2所述的黄光制程曝光偏移校正方法，其特征在于，所述根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正具体包括：

根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；

根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；

根据所述角度偏差值顺时针或逆时针旋转所述基板。

6.一种黄光制程曝光偏移校正装置，其特征在于，包括：

测量模块，用于测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；

获取模块，用于获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；

计算模块，用于根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；

校正模块，用于根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。

7.根据权利要求6所述的黄光制程曝光偏移校正装置，其特征在于：

所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；

所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；

所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

8.根据权利要求7所述的黄光制程曝光偏移校正装置，其特征在于，还包括储存模块，所述储存模块用于储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

9.根据权利要求7所述的黄光制程曝光偏移校正装置，其特征在于，还包括暂停模块，所述暂停模块用于当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。

10.根据权利要求7所述的黄光制程曝光偏移校正装置，其特征在于，所述校正模块包括：

第一移动单元，用于根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；

第二移动单元，用于根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；

旋转单元，用于根据所述角度偏差值顺时针或逆时针旋转所述基板。