[发明专利]黄光制程曝光偏移校正方法及装置

说明书

本发明公开一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。本发明还公开一种黄光制程曝光偏移校正装置。本发明的技术方案中，当曝光的图像产生位置偏移，造成产品异常时，曝光机可以及时反应，立即回馈校正，避免异常发生，可以实时监控曝光机的工作状况，保证产品品质，并提升曝光机的工作时间，防止后制程频发暂停影响机台嫁动，减少工程师值班时间。

技术领域

本发明涉及图像处理技术领域，尤其涉及一种黄光制程曝光偏移校正方法及装置。

背景技术

目前，黄光制程的精准性与稳定性是直接影响产品品质的关键，黄光制程的原理是：在曝光机的基板设置有感光材料，基板放置在曝光平台上，光罩设置在光照平台上，将照明系统产生的紫外光照射在光罩上，紫外光透过光罩未遮挡的部分照射在基板上，使基板上的感光材料发生化学反应，从而将光罩上投影的图像转移到基板上。现有技术中，当基板的中心点发生偏移，图像产生位置偏移，造成产品异常，当产品出现异常，需工程师在线下确认，不能及时拦检，造成后制程频发暂停影响机台嫁动。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种黄光制程曝光偏移校正方法，旨在解决现有技术中当产品出现异常时不能及时拦检，造成后制程频发暂停影响机台嫁动的问题。

为实现上述目的，本发明提供一种黄光制程曝光偏移校正方法，包括以下步骤：

测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；

获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；

根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；

根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正。

可选的，所述标准位置数据包括所述光罩在所述基板上的投影与所述基板边缘的标准横向距离、标准纵向距离和所述投影与所述基板形成的标准角度；

所述当前位置数据包括所述光罩在所述基板上的所述投影与所述基板边缘的当前横向距离、当前纵向距离和所述投影与所述基板形成的当前角度；

所述偏差值包括横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

可选的，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：

储存所述横向距离偏差值、纵向距离偏差值和角度偏差值。

可选的，所述根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值之后还包括：

当所述横向距离偏差值、所述纵向距离偏差值和所述角度偏差值中的至少一个不为零时，控制所述曝光机暂停。

可选的，所述根据所述位置数据的偏差值对所述基板进行偏移校正具体包括：

根据所述横向距离偏差值向左或向右移动所述基板；

根据所述纵向距离偏差值向上或向下移动所述基板；

根据所述角度偏差值顺时针或逆时针旋转所述基板。

此外，为实现上述目的，本发明还提供一种黄光制程曝光偏移校正装置，所述黄光制程曝光偏移校正装置包括：

测量模块，用于测量曝光机的光罩与基板相对的标准位置数据；

获取模块，用于获取所述光罩与所述基板相对的当前位置数据；

计算模块，用于根据所述当前位置数据和所述标准位置数据计算获得位置数据的偏差值；