[发明专利]一种光刻胶及光刻胶图案的制作方法在审
申请号: | 201811351459.0 | 申请日: | 2018-11-14 |
公开(公告)号: | CN109270791A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 刘明;左岳平;孟秋华;王纯阳;方飞 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻胶 光刻胶图案 感光单元 制作 光刻胶技术 大误差 光照量 坡度角 | ||
1.一种光刻胶,其特征在于,包括:
多个感光单元,每个所述感光单元均具有磁性。
2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述感光单元通过感光材料与磁性离子发生化学反应形成。
3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述感光单元通过感光材料包裹磁性材料形成。
4.根据权利要求3所述的光刻胶,其特征在于,所述磁性材料为磁性纳米颗粒。
5.根据权利要求4所述的光刻胶,其特征在于,所述磁性纳米颗粒为纳米微球或量子点微球。
6.根据权利要求2所述的光刻胶,其特征在于,所述磁性离子为铁离子或镍离子。
7.一种光刻胶图案的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
在基底上涂覆如权利要求1至6中任意一项所述的光刻胶;
向所述光刻胶添加磁场,以使所述光刻胶底部的感光单元的含量大于所述光刻胶顶部的感光单元的含量;
对所述光刻胶进行曝光和显影,以形成所述光刻胶图案。
8.根据权利要求7所述的光刻胶图案的制作方法,其特征在于,所述向所述光刻胶添加磁场具体为:
在形成有所述光刻胶的基底的下方或上方设置磁力件,利用所述磁力件控制所述光刻胶中的感光单元的分布。
9.根据权利要求8所述的光刻胶图案的制作方法,其特征在于,所述磁力件为磁铁。
10.根据权利要求7所述的光刻胶图案的制作方法,其特征在于,在基底上涂覆所述光刻胶后,所述制作方法还包括:
对所述光刻胶进行前烘处理;
所述向所述光刻胶添加磁场具体为:
在对所述光刻胶进行前烘处理之前向所述光刻胶添加磁场,或在对所述光刻胶进行前烘处理的过程中向所述光刻胶添加磁场。
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