[发明专利]一种陶瓷砖的表面施釉方法及其制备的陶瓷砖

权利要求书

1.一种陶瓷砖的表面施釉方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)分别配制面釉与光泽梯度渐变釉；

所述面釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：

所述面釉各组分的质量百分数之和为100％；

所述光泽梯度渐变釉的组成按质量百分数计，包括以下组分：

熔块B 85wt％～95wt％

水洗高岭土 5wt％～15wt％；

所述光泽梯度渐变釉各组分的质量百分数之和为100％；

(2)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，在瓷砖坯体表面进行所述面釉的施釉，得到具有面釉层的瓷砖；

(3)根据预定的陶瓷砖表面光泽度，进行所述光泽梯度渐变釉的施釉，得到表面依次具有面釉层和光泽梯度渐变釉层的陶瓷砖；

步骤(2)所述预定陶瓷砖表面光泽度与所述面釉和所述光泽梯度渐变釉之间的关系可以表示为：

陶瓷表面光泽度＝面釉光泽度+(光泽梯度渐变釉的施釉量/常数3～5)×1.12；

步骤(3)所述光泽梯度渐变釉的施釉方式包括喷釉、钟罩淋釉、平板丝网印刷和胶辊印刷中的任意一种或至少两种的组合；

所述光泽梯度渐变釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0～0.6；

所述光泽梯度渐变釉的施釉量为0～320g/m²。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述面釉层的光泽度为1°～10°。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)所述面釉的施釉方式包括钟罩淋釉或喷釉。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述面釉的细度控制在标准筛325目，筛余为0.4～0.6。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述面釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85，施釉量为480～550g/m²。

6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述面釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45，施釉量为650～700g/m²。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为喷釉，所述喷釉的釉浆粘度为14～18s，施釉比重为1.30～1.45。

8.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为钟罩淋釉，所述钟罩淋釉的釉浆粘度为26～35s，施釉比重为1.70～1.85。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为平板印刷，所述平板印刷的施釉比重为1.20～1.35，花网目数为80～200目。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光泽梯度渐变釉的施釉方式为胶辊印刷，所述胶辊印刷的釉浆粘度为16～24s，施釉比重为1.30～1.55。