[发明专利]OLED基板、OLED基板的制作方法及柔性显示装置在审

专利信息
申请号: 201811577451.6 申请日: 2018-12-20
公开(公告)号: CN109768180A 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 邱继毅;刘胜发 申请(专利权)人: 华映科技(集团)股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 李艳丽
地址: 350000 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 滤光层 像素区域 子像素区域 像素定义层 柔性显示装置 衬底基板 第一电极 制作 通孔 发光效率 滤光材料 色偏 暴露
【权利要求书】:

1.一种OLED基板,其特征在于,包括衬底基板、间隔设于所述衬底基板上的多个第一电极,以及设于所述衬底基板与多个所述第一电极上的像素定义层;所述像素定义层具有分别对应暴露多个部分所述第一电极的多个通孔,所述衬底基板包括多个像素区域,每一所述像素区域包括第一子像素区域、第二子像素区域以及第三子像素区域,多个所述通孔分别位于多个子像素区域内;所述像素定义层包括分别对应所述第一子像素区域、所述第二子像素区域以及所述第三子像素区域的第一滤光层、第二滤光层以及第三滤光层,所述第一滤光层采用第一颜色的滤光材料制作,所述第二滤光层采用第二颜色的滤光材料制作,所述第三滤光层采用第三颜色的滤光材料制作。

2.如权利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述OLED基板还包括设于所述通孔内的发光功能层与设于所述发光功能层上的第二电极,所述发光功能层包括依次设于所述第一电极上空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层以及电子注入层;位于所述第一电极上的所述像素定义层的高度的计算方式如下:

其中,H为位于所述第一电极上的所述像素定义层的高度,HI为空穴注入层的厚度,HT为空穴传输层的厚度,HB为电子阻挡层的厚度,d为通孔的宽度,θ为初始色偏角度。

3.如权利要求1所述的OLED基板,其特征在于,所述像素定义层的材料为光阻材料,所述第一滤光层为红色滤光层,所述第二滤光层为绿色滤光层,所述第三滤光层为蓝色滤光层。

4.一种OLED基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

提供衬底基板,所述衬底基板包括多个像素区域,每一所述像素区域包括第一子像素区域、第二子像素区域以及第三子像素区域;

在所述衬底基板上形成间隔设置的多个第一电极;以及

在所述衬底基板与多个所述第一电极上形成像素定义层,所述像素定义层具有分别对应暴露多个部分所述第一电极的多个通孔,多个所述通孔分别位于多个所述子像素区域内,所述像素定义层包括分别对应所述第一子像素区域、所述第二子像素区域以及所述第三子像素区域的第一滤光层、第二滤光层以及第三滤光层,所述第一滤光层采用第一颜色的滤光材料制作,所述第二滤光层采用第二颜色的滤光材料制作,所述第三滤光层采用第三颜色的滤光材料制作。

5.如权利要求4所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,还包括以下步骤:

在每一所述通孔中形成位于所述第一电极上的发光功能层,所述发光功能层包括依次设于所述第一电极上空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层以及电子注入层;

在所述发光功能层上形成第二电极。

6.如权利要求5所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,位于所述第一电极上的所述像素定义层的高度的计算方式如下:

其中,H为位于所述第一电极上的所述像素定义层的高度,HI为空穴注入层的厚度,HT为空穴传输层的厚度,HB为电子阻挡层的厚度,d为通孔的宽度,θ为初始色偏角度。

7.如权利要求4所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,所述像素定义层的材料为光阻材料,所述第一滤光层为红色滤光层,所述第二滤光层为绿色滤光层,所述第三滤光层为蓝色滤光层。

8.如权利要求7所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,在所述衬底基板与多个所述第一电极上形成像素定义层具体步骤为:在所述衬底基板与多个所述第一电极上涂布光阻材料得到光阻层,对所述光阻层进行图案化处理,从而得到所述像素定义层。

9.如权利要求8所述的OLED基板的制作方法,其特征在于,对所述光阻层进行图案化处理的步骤具体为:采用光罩对所述光阻层进行曝光与显影处理,从而得到所述像素定义层。

10.一种柔性显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至3任一项所述的OLED基板。

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