[发明专利]一种能够预防孔内无铜的厚铜板制作工艺在审

专利信息
申请号: 201811637805.1 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN109640546A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 周小凯 申请(专利权)人: 深圳万基隆电子科技有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 深圳市深联知识产权代理事务所(普通合伙) 44357 代理人: 黄立强
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 厚铜板 铜板 铜层 酸性蚀刻 制作工艺 化学铜 干膜 压合 覆盖 化学反应 加厚 产品品质 负片图形 化学蚀刻 降低设备 内层芯板 上下表面 铜板表面 整板电镀 工艺流程 大电流 导通孔 药水 板电 沉铜 除掉 单片 开料 膜做 内层 烧断 芯板 压干 阻焊 钻孔 预防 成型 保留 贯穿 制作 优化
【说明书】:

一种能够预防孔内无铜的厚铜板制作工艺,包括如下步骤:开料;制内层图形;酸性蚀刻,将上一步干膜盖住的铜层部分保留,未被干膜覆盖的铜层通过化学蚀刻去除掉,制成内层芯板;压合:在内层芯板上下表面对应贴PP,并依次覆盖单片铜板进行压合;钻孔:在上一步制得的铜板上钻导通孔;沉铜:通过化学反应在铜板表面以及孔内沉上化学铜;板电:整板电镀加厚铜层;压干膜做负片图形;酸性蚀刻;最后经过阻焊‑文字‑表面处理‑成型‑FQC‑FQA‑包装,制得厚铜板。本发明通过优化改善制作工艺流程,解决因铜板太厚药水不能完全贯穿,所导致的孔内无铜问题,使孔内化学铜覆盖均匀,不会出现大电流或高温烧断的情况,提高产品品质,降低设备隐患。

技术领域

本发明涉及PCB板制作领域,尤其涉及一种厚铜板制作工艺。

背景技术

随着电子产品轻薄化、小型化和高集成化的方向快速发展,对印制电路板的大电流工作稳定性、高耐电压能力、安全性、耐久性以及高导热性能等方面提出了更高的要求。厚铜板、多层厚铜板属于新型大功率电子元器件,完全可以满足以上要求,厚铜板主要运用于汽车、航空、通讯、功率转换器、大功率电源等行业领域,其具有高速、高频、电流容量大、小型化等特点,能够提高散热性能。

目前,厚度大于6.0mm的厚铜板孔内普遍存在药水难以贯穿及孔内镀铜不均的情况,切片看孔内铜箔厚度,基本上都是两边厚,而孔中间厚度不达标,甚至孔中间还会出现无铜的现象。孔中间的铜厚偏薄,运用到设备上如果遇到大电流或高温情况,很容易使孔内铜层断裂,导致设备无法正常运转,甚至造成重大事故。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服上述现有技术的不足,提供一种能够预防孔内无铜的厚铜板制作工艺。

本发明解决上述技术问题采用的技术方案是:一种能够预防孔内无铜的厚铜板制作工艺,包括如下步骤:

第一步,开料:选择铜板基材,根据要求裁切;

第二步,制内层图形:铜板表面压干膜,将菲林上的图形转移到铜板的表面,然后对位、曝光、显影;

第三步,蚀刻:酸性蚀刻,将上一步干膜盖住的铜层部分保留,未被干膜覆盖的铜层通过化学蚀刻去除掉,之后退膜形成内层线路图形,制成内层芯板;

第四步,压合:在内层芯板上下表面对应贴PP,并依次覆盖单片铜板进行压合;

第五步,钻孔:在上一步制得的铜板上钻导通孔;

第六步,沉铜:通过化学反应在铜板表面以及孔内沉上化学铜,操作过程如下:

蓬松,软化孔内毛刺及粉尘,

除胶渣,用高锰酸钾和氢氧化钠去除钻污及粉尘,

中和,成分为酸性,中和掉孔内残留的高锰酸钾和氢氧化钠,

除油,去除钻污、调整孔壁电荷,

微蚀,粗化铜面,

预浸,除去铜板表面残留的化学药品,

活化,使钯离子均匀附着在铜层表面和孔壁上,

加速,除去钯离子外围物质,漏出有催化活性的钯核,

化学沉铜,通过催化钯的作用,使铜层表面和孔壁沉积一层铜层,为板电加厚铜提供导电基体;

第七步,板电:整板电镀加厚铜层;

第八步,压干膜做负片图形,与第二步操作要求一致;

第九步,酸性蚀刻:与第三步操作要求一致;

第十步,最后经过阻焊-文字-表面处理-成型-FQC-FQA-包装,制得厚铜板。

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