[实用新型]一种微绘珐琅表盘及手表有效
| 申请号： | 201820086432.2 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN207817425U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 袁军平;代思晖;王含予 | 申请（专利权）人： | 广州番禺职业技术学院 |
| 主分类号： | G04B47/04 | 分类号： | G04B47/04;G04B19/10 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 宋静娜;郝传鑫 |
| 地址： | 510000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表盘 陶瓷 珐琅 手表机芯 针脚 本实用新型 定位凹槽 定位凹坑 定位手表 表冠 背面 手表 数控平面磨床 表针安装孔 等静压成型 表面平整 珐琅釉层 金属表盘 侧面 变形的 常规的 机芯 表针 卡针 适配 贴合 烧制 制作 | ||
1.一种微绘珐琅表盘，包括陶瓷表盘本体，其特征在于：所述陶瓷表盘本体的中心设有表针安装孔，所述陶瓷表盘本体的背面设有用于安装手表机芯的针脚的定位凹坑，所述陶瓷表盘本体的侧面设有用于定位手表表冠的定位凹槽，所述陶瓷表盘本体的正面设有珐琅釉层。
2.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述陶瓷表盘本体的侧面和背面镀有金属钛层。
3.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述珐琅釉层的厚度为0.15～0.25mm，所述珐琅釉层包括底层的底釉层和上层的在显微镜下绘制的画珐琅釉层。
4.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述陶瓷表盘本体由纳米氧化锆形成，所述陶瓷表盘本体的表面粗糙度为13～16μm、厚度为0.3～0.4mm。
5.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述表针安装孔的直径为1.8～2.0mm。
6.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述定位凹坑的深度为0.5～0.6mm、直径为1.2～1.5mm。
7.如权利要求1所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述定位凹槽的宽度为0.2～0.25mm、深度为0.1～0.15mm。
8.如权利要求3所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述底釉层由热膨胀系数为8×10-6/℃～9×10-6/℃的中高温白色釉粉形成。
9.如权利要求3所述的微绘珐琅表盘，其特征在于：所述画珐琅釉层由热膨胀系数为6×10-6/℃～8×10-6/℃的中低温釉料形成。
10.一种手表，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项所述的微绘珐琅表盘。
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