[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法

权利要求书

1.一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有树脂(A)，用于形成膜厚为2μm以上的膜，

所述树脂(A)包含具有酸性基团的重复单元及具有酸分解性基团的重复单元，

所述具有酸性基团的重复单元的含量相对于所述树脂(A)中的所有重复单元为15摩尔％以上，

所述具有酸分解性基团的重复单元的含量相对于所述树脂(A)中的所有重复单元大于20摩尔％，

所述树脂(A)包含下述源自于丙烯酸叔丁酯的重复单元和下述源自于苯乙烯的重复单元，

所述树脂(A)的玻璃化转变温度为145℃以下，

2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述酸性基团为羧基、酚性羟基或磺基。

3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述具有酸性基团的重复单元的含量相对于所述树脂(A)中的所有重复单元为45摩尔％以上。

4.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂(A)的汉森溶解度参数为20.5(J/cm³)^0.5以下。

5.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂(A)具有源自于制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的重复单元B1。

6.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂(A)具有汉森溶解度参数为19.5(J/cm³)^0.5以下且源自于制成均聚物时的玻璃化转变温度为50℃以下的单体的重复单元BC1。

7.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元B1是源自于制成均聚物时的玻璃化转变温度为-20℃以下的单体的重复单元。

8.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述树脂(A)具有汉森溶解度参数为19.5(J/cm³)^0.5以下且源自于制成均聚物时的玻璃化转变温度为-20℃以下的单体的重复单元C1。

9.根据权利要求6所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元BC1是源自于制成均聚物时的玻璃化转变温度为-20℃以下的单体的重复单元。

10.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元B1是源自于汉森溶解度参数为16.0(J/cm³)^0.5以下的单体的重复单元。

11.根据权利要求8所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元C1是源自于汉森溶解度参数为16.0(J/cm³)^0.5以下的单体的重复单元。

12.根据权利要求6所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元BC1是源自于汉森溶解度参数为16.0(J/cm³)^0.5以下的单体的重复单元。

13.根据权利要求5所述的感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其中，

所述重复单元B1是由下述通式(1-2)表示的重复单元，

通式(1-2)中，R₁表示氢原子、卤素原子或烷基，R₂表示任选地包含杂原子的、碳原子数为4以上的非酸分解性链状烷基。