[发明专利]加热膜及其制造方法

权利要求书

1.一种加热膜，包括：

透明基板；

设置在所述透明基板上并且折射率为1.450至1.485的涂层；和

设置在所述涂层上的金属箔图案，

其中，与所述涂层接触的金属箔图案的表面的十点平均粗糙度(Rz)大于0.9μm。

2.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层的与设置有所述透明基板的表面相反的全部表面的十点平均粗糙度(Rz)大于0.9μm。

3.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层的折射率为1.465至1.485。

4.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层的厚度为3μm至15μm。

5.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层的厚度为3μm至7μm。

6.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层的厚度为7μm至15μm。

7.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述涂层包括聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)和丙烯酸酯类粘合剂物质中的一种或多种，

所述涂层的玻璃化转变温度(Tg)为25℃至80℃。

8.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述金属箔图案的高度为2μm至15μm。

9.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述金属箔图案包括铝箔图案或铜箔图案。

10.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述金属箔图案包括在380nm至780nm的波长下具有15％以下的平均反射率的铝箔图案或铜箔图案。

11.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述金属箔图案的金属部分在380nm至780nm的波长下具有67％以下的平均反射率。

12.根据权利要求1所述的加热膜，其中，所述金属箔图案的线宽为4μm至25μm。

13.根据权利要求1所述的加热膜，还包括在所述金属箔图案上的黑化层图案或聚合物树脂层图案。

14.根据权利要求13所述的加热膜，其中，所述黑化层图案包括铬类、硒类、硫化铜类、氧化铜类、硫化铜类、氮氧化铝类和氮氧化铜类物质中的一种或多种。

15.根据权利要求13所述的加热膜，其中，所述聚合物树脂层图案包括酚醛清漆树脂或丙烯酸酯类树脂。

16.根据权利要求1所述的加热膜，还包括在所述涂层和所述金属箔图案上的保护层，

其中，所述涂层与所述保护层之间的折射率差为0.030以下。

17.根据权利要求16所述的加热膜，其中，所述保护层的厚度为3μm至30μm。

18.根据权利要求16所述的加热膜，其中，所述涂层和所述保护层包括相同的物质。

19.根据权利要求1所述的加热膜，还包括在所述透明基板的与设置有所述涂层的表面相反的表面上的第一层压膜，

其中，所述涂层与所述第一层压膜之间的折射率差为0.030以下。

20.根据权利要求19所述的加热膜，其中，所述涂层和所述第一层压膜包括相同的物质。

21.根据权利要求20所述的加热膜，其中，所述涂层和所述第一层压膜包括聚乙烯醇缩丁醛(PVB)。