[发明专利]钌化合物、薄膜形成用原料以及薄膜的制造方法在审
| 申请号： | 201880072963.9 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN111344294A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 吉野智晴;远津正挥;冈田奈奈;畑濑雅子 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C07F15/00 | 分类号： | C07F15/00;C23C16/18;H01L21/28;H01L21/285 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化合物 薄膜 形成 原料 以及 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种钌化合物，其由下述通式(1)表示，
式中，R1～R3分别独立地表示碳原子数1～5的烷基，其中，在R1为甲基的情况下，R2与R3为不同的基团，
2.一种薄膜形成用原料，其含有权利要求1所述的钌化合物。
3.一种制造薄膜的方法，所述薄膜在基体的表面含有钌原子，所述方法包括以下工序：
使权利要求2所述的薄膜形成用原料气化，而得到含有所述钌化合物的蒸气的工序；
将所述蒸气导入至处理气氛的工序；以及
通过使该化合物分解、通过使该化合物进行化学反应、或通过使该化合物分解和使该化合物进行化学反应这两者，来使该化合物沉积于基体的工序。
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