[发明专利]一种振荡器的集成电路有效

专利信息
申请号: 201880078141.1 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN111434030B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 胡诣哲;黄寿;提拉硕特·斯里布莱隆;罗伯特·博格丹·斯塔谢夫斯基;周盛华 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H03B5/12 分类号: H03B5/12;H03B5/04
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 振荡器 集成电路
【说明书】:

本申请实施例提供一种振荡器的集成电路,涉及电子技术领域,用于降低振荡器的集成电路的相位噪声。该集成电路包括变压器、交叉耦合单元和尾电感单元;其中,变压器包括互相缠绕的第一线圈和第二线圈,第一线圈和第二线圈的电压端均耦合至电源端(VDD),第一线圈包括一对第一输出端,第二线圈包括一对第二输出端,交叉耦合单元包括第一MOS管和第二MOS管,第一MOS管和第二MOS管的栅极分别与一对第二输出端相接,第一MOS管和第二MOS管的漏极分别与一对第一输出端相接,第一MOS管和第二MOS管的源极均通过尾电感单元耦合至地端(VSS),其中,尾电感单元自交叉耦合单元越过变压器,朝向电压端所处的一侧延伸。

技术领域

本申请实施例涉及电子技术领域,尤其涉及一种振荡器的集成电路。

背景技术

振荡器作为电子系统的重要单元之一,其应用范围非常广泛。通常振荡器的相位噪声(phase noise,PN)包括闪烁相位噪声(flicker PN)和热相位噪声(thermal PN)。闪烁相位噪声和热相位噪声是衡量振荡器性能的主要参数,具有低相位噪声的振荡器一直是被长期研究的课题。

现有技术中,如图1所示,提供一种采用尾谐振腔技术的B类(class-B)振荡器的集成电路,该B类振荡器包括:由电感LO和电容CO组成的主谐振腔,由MOS管M1和M2组成的交叉耦合对,由尾电感Ltail和MOS管寄生电容(图1中以CM1和CM2表示)组成的尾谐振腔,以及由多个并联的电容组成的位于振荡器的电源VDD和地VSS之间的去耦合电容阵列。上述B类振荡器只要将尾谐振调谐到两倍的振荡器的自由振荡频率,则该振荡器的闪烁相位噪声和热相位噪声都会大幅度降低。

上述振荡器最佳的相噪点仅仅发生在尾部谐振腔的谐振频率是自由谐振频率的两倍,自由谐振频率稍微的变化将很快恶化相位噪声。另外,上述振荡器常采用的是单圈电感LO,但是其实际共模回路中包含了去耦合电容阵列,去耦合电容阵列中存在较大的寄生电感且共模电流方向难以确定,这些会导致振荡器的相位噪声严重恶化。

发明内容

本申请实施例提供一种振荡器的集成电路,能够达到低相位噪声的要求。

第一方面,提供一种振荡器的集成电路,该集成电路包括变压器、交叉耦合单元和尾电感单元;其中,变压器包括互相缠绕的第一线圈和第二线圈,第一线圈和第二线圈的电压端均耦合至电源端(VDD),第一线圈包括一对第一输出端,第二线圈包括一对第二输出端,交叉耦合单元包括第一金属氧化物半导体MOS管和第二MOS管,第一MOS管和第二MOS管的栅极分别与一对第二输出端相接,第一MOS管和第二MOS管的漏极分别与一对第一输出端相接,第一MOS管和第二MOS管的源极均通过尾电感单元耦合至地端(VSS),其中,尾电感单元自交叉耦合单元越过所述变压器,朝向所述电压端所处的一侧延伸。上述技术方案中,由于尾电感单元与VSS相耦合,而电压端与VDD相耦合,尾电感单元从所述交叉耦合单元向所述电压端延伸,这相当于在布线中拉近了振荡器电路的VDD端和VSS端之间的距离,从而减小所述VDD与所述VSS间的去耦合电容的寄生电感,避免因为寄生电感的不确定性,而导致该集成电路的闪烁相位噪声上调的问题,进而使该集成电路具有较低的相位噪声。在可能的实现方式中,所述集成电路设置在多层布线层上,其中,所述变压器的第一线圈和第二线圈,可以设置在一个或多个布线层上,为了拉近所述振荡器电路的VDD端和VSS端的距离,尾电感单元需要通过其他布线层穿过所述第一线圈和第二线圈的投影,这就是所谓的“越过所述变压器”。而为了减小所述振荡器的寄生电感,所述尾电感单元的与地端耦合的一端自然越靠近所述VDD端越好,因此,所述“朝向所述电压端所处的一侧延伸”仅仅是说明了尾电感单元的延伸方向,而尾电感单元的延伸距离不应止于所述电压端的位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华为技术有限公司,未经华为技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880078141.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top