[其他]超声波洗净装置及超声波洗净系统有效
申请号: | 201890000296.9 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN210497445U | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 大畑桂辅;坂元律之 | 申请(专利权)人: | 株式会社海上 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;H01L21/304 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 刘兵;金惠淑 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 超声波 洗净 装置 系统 | ||
本实用新型提供一种超声波洗净装置及超声波洗净系统,其可洗净玻璃基板等半导体基板及可挠性薄膜等大型被洗净物,具备线形冲洗型及号角型的超声波洗净装置的功能,可省液化大幅减低使用的洗净液。该装置具备:筐体,具有底面,该底面与相对向设置的被洗净物形成倾斜面,在内部下面设有超声波振动子;洗净液供应装置,作为将洗净液供应给筐体底面的液膜形成手段;及流速加速装置,将来自作为液膜形成手段的洗净液供应装置的洗净液流速加速,作为喷出洗净液的流速加速部;筐体由本体构成,该本体具有上板、安装于上板下部的凸出部、从凸出部往下方向延伸形成的外部侧面、及在外部侧面的下端部一体连结构成的底面;底面构成仅以规定角度倾斜于水平面。
技术领域
本实用新型涉及对由晶圆和玻璃基板等构成的半导体基板及可挠性薄膜等被洗净物进行超声波洗净的超声波洗净装置及超声波洗净系统,特别涉及可进行线形冲洗型及号角型的洗净、且大幅减低使用的洗净液而可省液化的超声波洗净装置及超声波洗净系统。
背景技术
以往,一般超声波洗净装置是在洗净槽下面安装超声波振动子,对洗净槽供应洗净液,并将被洗净物浸渍于洗净槽,从洗净槽下面施加超声波振动,进行洗净。另外,也有将内设于不透水结构本体的超声波振动子投入洗净液,用于进行投入振动子方式的洗净。
在洗净液晶面板和半导体晶圆等中,已知有冲洗型超声波洗净装置,其是将洗净液与超声波同时以冲洗形喷出,用超声波洗净这些被洗净物。
在专利文献1中公开了一种冲洗型超声波洗净装置,该冲洗型超声波洗净装置不需严密调整从喷嘴前端到被洗净物的距离,可轻易调整设置。
根据专利文献1,冲洗型超声波洗净装置具有:安装于筐体前端部的喷嘴、与喷嘴后端部相对向配置的圆板形的超声波振动子,以及形成于筐体侧面的洗净液的供液口;在直径固定的直线形圆孔形成喷嘴的吐出孔,并且使喷嘴的后端部面从其外缘向吐出孔以规定倾斜角构成下降的圆锥形。从喷嘴前端喷射从供液口供应的洗净液和从超声波振动子所辐射的超声波,用于洗净配置于喷嘴前方的被洗净物。由此,由于从喷嘴辐射的超声波未形成焦点,因此不必严密调整从被洗净物到喷嘴前端的距离。
像这样,含线型的冲洗型超声波洗净装置是通过筐体内部的超声波振动子,对供应的洗净液照射超声波的能量,对被洗净物喷出从喷嘴施加了超声波的洗净液,由此去除颗粒等污垢。
另外,在专利文献2中,公开有如被洗净物是半导体晶圆和半导体晶圆以外的其他被洗净物时也能依照污垢程度任意选择洗净的号角型叶片式洗净装置。
根据专利文献2,其包含有:旋转台,用于支撑被洗净物的一面;多个振动元件,以与支撑被洗净物另一面相对向配置的不同振动数进行振动;供液嘴,在振动元件和被洗净物的间供应洗净液;马达,使旋转台相对振动元件平行移动;以及超声波振荡器,以不同频率使该振动元件超声波振动。
这种叶片式洗净装置是一边使支撑于旋转台的被洗净物移动一边使振动元件超声波振动,通过洗净液将被洗净物面洗净。
因此,号角型叶片式洗净装置(以下称为号角型超声波洗净装置)是在振动面与被洗净物的间形成液膜,由此通过液膜将超声波能量直接传导到被洗净物,去除污垢,将被洗净物洗净。
另外,在专利文献3中,公开有号角型超声波洗净机,其设有:超声波振动体,其与被洗净物的洗净面保持规定角度,并保持空隙设置;以及介质供应管,配置于超声波振动体的附近;从介质供应管放出介质,在超声波振动体的振动面与被洗净物的洗净面之间形成介质层,通过介质层对被洗净物施加超声波振动。
专利文献1:日本特开2001-933号公报
专利文献2:日本特开2005-85978号公报
专利文献3:日本特开平3-258381号公报
专利文献4:韩国登录公报10-1336996号公报
实用新型内容
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