[发明专利]一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置

权利要求书

1.一种膜层厚度均一性调整方法，所述膜层通过线性蒸发源蒸镀形成；其特征在于，所述方法包括：

获取所述膜层在多个测量点处的膜厚测量值；

根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数；其中，所述坡度斜率参数用于表征所述线性蒸发源的受热均衡情况，所述水平均一性参数用于表征所述线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况；

所述多个测量点均位于X轴上，且所述X轴垂直于所述线性蒸发源的扫描方向；

所述根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数具体包括：

根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的整体均值、左半均值和右半均值；其中，所述整体均值为多个所述膜厚测量值的均值；按照所述膜层的中线位置，将所述多个测量点分为左半集合和右半集合，所述左半均值为所述左半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值，所述右半均值为所述右半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值；

获取所述左半均值和所述右半均值的差值，并获取所述差值的绝对值与2倍的所述整体均值的比值，将所述比值作为所述坡度斜率参数。

2.根据权利要求1所述的膜层厚度均一性调整方法，其特征在于，所述方法还包括：

若所述坡度斜率参数大于第一预设阈值，则调整所述线性蒸发源的反射板的设置数量；

若所述水平均一性参数大于第二预设阈值，则调整所述线性蒸发源的蒸镀口的口径大小。

3.根据权利要求2所述的膜层厚度均一性调整方法，其特征在于，所述根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的水平均一性参数具体包括：

将多个测量点在所述X轴上的坐标值与其对应的膜厚测量值组成数据集合，获取所述数据集合的拟合线性回归直线的斜率；

获取每个所述测量点在所述X轴上的坐标值和所述拟合线性回归直线的斜率的乘积，并获取该测量点的膜厚测量值与所述乘积的差值，将所述差值作为该测量点的水平膜厚值；

获取多个所述水平膜厚值中的最大值和最小值，并获取所述最大值和所述最小值的差值与所述最大值和所述最小值的和值的比值，将所述比值作为所述水平均一性参数。

4.根据权利要求3所述的膜层厚度均一性调整方法，其特征在于，所述获取所述数据集合的拟合线性回归直线的斜率具体包括：

根据Slope公式获取所述拟合线性回归直线的斜率；所述Slope公式为：

Slope＝Sum[(Xi-Xmean)*(Yi-Ymean)]/Sum[(Xi-Xmean)*(Xi-Xmean)]

其中，Slope为拟合线性回归直线的斜率；Xi为第i个测量点的X轴坐标值；Yi为第i个测量点的膜厚测量值；Xmean为所有测量点的X轴坐标值的均值；Ymean为所有测量点的膜厚测量值的均值。

5.根据权利要求1所述的膜层厚度均一性调整方法，其特征在于，所述X轴的原点位于所述膜层的中线位置上。

6.根据权利要求1所述的膜层厚度均一性调整方法，其特征在于，所述测量点与所述线性蒸发源的蒸镀口一一对应。

7.一种膜层厚度均一性调整装置，所述膜层通过线性蒸发源蒸镀形成；其特征在于，所述装置包括：

第一获取模块，用于获取所述膜层在多个测量点处的膜厚测量值；

第二获取模块，用于根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数；其中，所述坡度斜率参数用于表征所述线性蒸发源的受热均衡情况，所述水平均一性参数用于表征所述线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况；

所述多个测量点均位于X轴上，且所述X轴垂直于所述线性蒸发源的扫描方向；

所述第二获取模块具体用于：

根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的整体均值、左半均值和右半均值；其中，所述整体均值为多个所述膜厚测量值的均值；按照所述膜层的中线位置，将所述多个测量点分为左半集合和右半集合，所述左半均值为所述左半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值，所述右半均值为所述右半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值；

获取所述左半均值和所述右半均值的差值，并获取所述差值的绝对值与2倍的所述整体均值的比值，将所述比值作为所述坡度斜率参数。