[发明专利]一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置有效
申请号: | 201910015033.6 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN109468597B | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
发明(设计)人: | 王云琴;刘吉昌;胡海兵 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 厚度 均一 调整 方法 及其 装置 | ||
本发明实施例提供一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置,涉及线性蒸镀技术领域,能够解决现有蒸镀的膜层厚度均一性超出规格时,由于采用随机调整喷嘴的孔径以及反射板数量的方式来调整膜层厚度的均一性而导致的调整效率较低,严重影响量产的问题。所述方法包括:获取膜层在多个测量点处的膜厚测量值;根据多个膜厚测量值获取膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数;其中,坡度斜率参数用于表征线性蒸发源的受热均衡情况,水平均一性参数用于表征线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况。本发明用于调整线性蒸发源的膜层厚度均一性。
技术领域
本发明涉及线性蒸镀技术领域,尤其涉及一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置。
背景技术
目前,真空蒸发镀膜工艺在有机电致发光显示装置(Organic Electro-luminescent Display,简称OLED)、液晶显示装置(Liquid Crystal Display,简称LCD)等的制作过程中被广泛使用。真空蒸发镀膜的基本原理是将镀膜材料放置于蒸镀装置的蒸发源中加热蒸发,形成的镀膜材料的气体分子或原子沉积到待镀膜基板上形成膜层。
现有蒸镀装置的蒸发源常使用线性蒸发源,线性蒸发源由坩埚、加热丝、喷嘴和反射板等主要部件组成,喷嘴的主要目的为将有机材料经加热后从喷嘴中喷出蒸镀到玻璃基板上,反射板的目的为将热量返回给坩埚,给坩埚一个热量的补正。在现有生产过程中,线性蒸发源通过加热的方式将材料蒸镀到玻璃基板上,然后需要使用膜厚测量仪在垂直于线性蒸发源的扫描方向的方向上测量蒸镀的膜厚情况,在测试过程中往往会出现膜层厚度均一性超出规格的现象。现有技术中通常采用随机调整喷嘴的孔径以及反射板数量的方式来调整膜层厚度的均一性,然而这样需要调整多次才可能达到规格要求,这会导致调整时间较长,且调整后的均一性变化难以掌握,从而使得调整效率较低,严重影响量产。
发明内容
本发明的实施例提供一种膜层厚度均一性调整方法及其调整装置,能够解决现有蒸镀的膜层厚度均一性超出规格时,由于采用随机调整喷嘴的孔径以及反射板数量的方式来调整膜层厚度的均一性而导致的调整效率较低,严重影响量产的问题。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一方面,本发明实施例提供一种膜层厚度均一性调整方法,所述膜层通过线性蒸发源蒸镀形成;所述方法包括:获取所述膜层在多个测量点处的膜厚测量值;根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数和水平均一性参数;其中,所述坡度斜率参数用于表征所述线性蒸发源的受热均衡情况,所述水平均一性参数用于表征所述线性蒸发源的蒸镀口出料均衡情况。
可选的,所述方法还包括:若所述坡度斜率参数大于第一预设阈值,则调整所述线性蒸发源的反射板的设置数量;若所述水平均一性参数大于第二预设阈值,则调整所述线性蒸发源的蒸镀口的口径大小。
可选的,所述多个测量点均位于X轴上,且所述X轴垂直于所述线性蒸发源的扫描方向。
可选的,所述根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的坡度斜率参数具体包括:根据多个所述膜厚测量值获取所述膜层的整体均值、左半均值和右半均值;其中,所述整体均值为多个所述膜厚测量值的均值;按照所述膜层的中线位置,将所述多个测量点分为左半集合和右半集合,所述左半均值为所述左半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值,所述右半均值为所述右半集合中所有测量点对应的膜厚测量值的均值;获取所述左半均值和所述右半均值的差值,并获取所述差值的绝对值与2倍的所述整体均值的比值,将所述比值作为所述坡度斜率参数。
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