[发明专利]一种用于油水分离的网及其制备方法有效
申请号: | 201910019187.2 | 申请日: | 2019-01-09 |
公开(公告)号: | CN109603208B | 公开(公告)日: | 2021-07-27 |
发明(设计)人: | 于照鹏;董利明;马志超;宋云云;姜巍;李佳倩;刘天一;胡顺安;焦洪宇 | 申请(专利权)人: | 常熟理工学院 |
主分类号: | B01D17/022 | 分类号: | B01D17/022 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 张俊范 |
地址: | 215500 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 油水 分离 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于油水分离的网,其特征在于,包括网本体和镀膜于所述网本体表面的氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜,所述氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜中氧化石墨烯占聚二甲基硅氧烷的质量比为0.5~30%,所述氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜表面加工有间隔排列的若干凸包结构并经等离子体刻蚀构成超亲水同时水下超疏油表面,所述凸包的直径为100~800μm,所述凸包的高度为20~800μm,所述凸包的间距为150~800μm,所述网本体的网孔密度为80~150目。
2.一种用于油水分离的网,其特征在于,包括网本体和镀膜于所述网本体表面的氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜,所述氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜中氧化石墨烯占聚二甲基硅氧烷的质量比为0.5~30%,所述氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜表面加工有间隔排列的若干凹坑结构并经等离子体刻蚀构成超亲水同时水下超疏油表面,所述凹坑的直径为100~800μm,所述凹坑的深度为20~800μm,所述凹坑的间距为150~800μm,所述网本体的网孔密度为80~150目。
3.根据权利要求1或2所述的用于油水分离的网,其特征在于,所述氧化石墨烯占聚二甲基硅氧烷的质量比为5~10%。
4.根据权利要求1或2所述的用于油水分离的网,其特征在于,所述网本体为铜网。
5.一种用于油水分离的网的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、混合搅拌:将氧化石墨烯与聚二甲基硅氧烷搅拌混合均匀,所述氧化石墨烯占聚二甲基硅氧烷的质量比为0.5~30%;
S2、稀释搅拌:将步骤S1得到的混合物静置0.5小时以上,然后注入聚二甲基硅氧烷质量1~8倍的有机溶剂进行稀释,搅拌后获得前驱体液;
S3、真空除气固化:将前驱体液以旋涂方式镀膜于网本体上,镀膜次数为1~10次,然后进行真空干燥固化,所述网本体的网孔密度为80~150目;
S4、采用激光加工在真空干燥固化的氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜表面制备均匀间隔排列的若干凸包或凹坑结构,并进行超声清洗;
S5、等离子体刻蚀:将清洗后的镀有氧化石墨烯和聚二甲基硅氧烷复合薄膜的网基体放入等离子体刻蚀机中,用空气或者氧气进行等离子体刻蚀5~600秒得到用于油水分离的网。
6.根据权利要求5所述的用于油水分离的网的制备方法,其特征在于,所述氧化石墨烯占聚二甲基硅氧烷的质量比为5~10%。
7.根据权利要求5所述的用于油水分离的网的制备方法,其特征在于,所述有机溶剂为甲苯、苯、二甲苯、氯仿和二氯甲烷中的一种。
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