[发明专利]一种多晶硅铸锭硅片清洗设备有效

专利信息
申请号: 201910042065.5 申请日: 2019-01-17
公开(公告)号: CN109904094B 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 李广森 申请(专利权)人: 安徽华顺半导体发展有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 合肥汇融专利代理有限公司 34141 代理人: 张雁
地址: 239300 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 多晶 铸锭 硅片 清洗 设备
【权利要求书】:

1.一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,包括装置主体、升降机构(2)和清洗机构(9),其特征在于:所述装置主体包括加工箱体(1)、抛光杆(3)、驱动机(4)、转轴(5)、内箱(6)、集水槽(7)、泵体(8)和支腿(10),所述支腿(10)设置在加工箱体(1)下端面,所述驱动机(4)设置在加工箱体(1)顶端面中间位置,所述转轴(5)转动连接在加工箱体(1)内部,且与驱动机(4)的输出端传动连接,所述抛光杆(3)设置在转轴(5)上,所述集水槽(7)设置在加工箱体(1)内部底端面,所述内箱(6)位于集水槽(7)上方;

所述升降机构(2)设置在加工箱体(1)内部上侧,所述升降机构(2)包括电机一(21)、滑轮(22)、传动轴(23)和绳索(24),所述传动轴(23)转动连接在加工箱体(1)内部靠上部位,所述滑轮(22)设有两个,两个滑轮(22)对称转动连接在传动轴(23)上,所述滑轮(22)通过绳索(24)与内箱(6)固定连接,所述传动轴(23)与电机一(21)的输出端传动连接;

所述清洗机构(9)包括辅助清洁组件(91)和电机二(92),所述电机二(92)设置在加工箱体(1)底端面,所述辅助清洁组件(91)设有两个,两个所述辅助清洁组件(91)对称设置在加工箱体(1)内部,所述辅助清洁组件(91)包括支架(911)、高压喷头(912)、滑块(913)、齿条(914)、齿轮(915)和安装轴(916),所述齿条(914)通过滑块(913)滑动连接在加工箱体(1)内部,所述齿轮(915)通过安装轴(916)转动连接在加工箱体(1)内部,所述齿轮(915)的齿槽与齿条(914)的齿槽相啮合,所述高压喷头(912)通过支架(911)与齿条(914)固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述支腿(10)设有四个,四个所述支腿(10)分别设置在加工箱体(1)下端面四个棱角处。

3.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述加工箱体(1)前端面铰接有箱门(11),箱门(11)中间位置设置有透明观察窗(13),箱门(11)前端面上侧设置有把手(12)。

4.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述泵体(8)通过软管与高压喷头(912)连接。

5.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述内箱(6)底端面开设有漏孔(a)。

6.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述集水槽(7)内部设置有过滤网,且过滤网为双层结构。

7.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:两个所述安装轴(916)之间通过同步带传动连接,且安装轴(916)与电机二(92)的输出端传动连接。

8.根据权利要求1所述的一种多晶硅铸锭硅片清洗设备,其特征在于:所述抛光杆(3)设有若干个,若干个所述抛光杆(3)呈环形等距排布于转轴(5)环形侧面。

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