[发明专利]一种适用于滤波反投影算法的两维自聚焦方法有效

专利信息
申请号: 201910078771.5 申请日: 2019-01-28
公开(公告)号: CN109799502B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 毛新华;李丹琪;施天玥;鲍悦 申请(专利权)人: 南京航空航天大学
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90
代理公司: 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 代理人: 姜慧勤
地址: 210016 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 适用于 滤波 投影 算法 自聚焦 方法
【权利要求书】:

1.一种适用于滤波反投影算法的两维自聚焦方法,其特征在于,包括如下步骤:

步骤1,对于经滤波反投影算法得到的图像,在图像域乘以矫正函数,消除频谱模糊;

所述矫正函数的公式如下:

fcor1(x,y)=exp{jykyc}

其中,fcor1(x,y)表示矫正函数,x、y分别为图像像素的方位、距离方向的坐标,j为虚数单位,kyc=4πfc/c为距离频率变量的偏置,fc为雷达发射信号载波频率,c为光速;

步骤2,将步骤1得到的图像在距离方向进行傅里叶变换到(x,ky)域,在(x,ky)域乘以相位矫正函数,将图像频谱一致化处理,其中,x为方位方向的坐标,ky为距离空间频率坐标;

所述相位矫正函数的公式如下:

其中,表示相位矫正函数,ky为距离空间频率坐标,x为图像像素方位方向的坐标,ya(0)表示方位时间为零的时刻雷达距离坐标的位置;

步骤3,将经步骤2图像频谱一致化处理后的图像在距离方向进行逆傅里叶变换到图像域,并采用一维自聚焦算法估计一维方位相位误差;

步骤4,根据先验的相位误差解析结构信息即一维方位相位误差与二维相位误差的映射关系,计算二维相位误差,并利用计算得到的二维相位误差进行补偿成像;

步骤5,重复步骤3-步骤4,直至图像满足精度要求。

2.根据权利要求1所述适用于滤波反投影算法的两维自聚焦方法,其特征在于,步骤3所述一维自聚焦算法选择为相位梯度自聚焦算法。

3.根据权利要求1所述适用于滤波反投影算法的两维自聚焦方法,其特征在于,步骤4所述一维方位相位误差与二维相位误差的映射关系,具体为:

其中,表示二维相位误差估计值,kx为方位空间频率坐标,ky为距离空间频率坐标,kyc=4πfc/c为距离频率变量的偏置,fc为雷达发射信号载波频率,c为光速,为一维方位相位误差估计值。

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