[发明专利]低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体

权利要求书

1.低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体，其特征在于，该载体中含有:

SiO₂ 48～52％；Al₂O₃ 33.8～37.4％；MgO 13.0～15.5％。

2.如权利要求1所述的低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体，其特征在于，该载体包括400cpsi/4mil、600cpsi/3mil和750cpsi/2mil的载体；

400cpsi/4mil的载体，其CTE≤5×10^-7/℃，抗弯强度≥1.54MPa，孔隙率≥22.7％，吸水率≥20.1％；烧成合格率≥80.1％，烧成收缩率≤3.4％；

600cpsi/3mil的载体，CTE≤4.5×10^-7/℃，抗弯强度B10≥1.54MPa，孔隙率≥24.6％，吸水率≥20.7；烧成合格率≥94.1％，烧成产品的收缩≤4.5％；

750cpsi/2mil的载体，CTE≤4.5×10^-7/℃，抗弯强度≥1.33MPa，孔隙率≥21.6％，吸水率≥20.7％，烧成合格率≥95.2％，烧成收缩率≤4.1％。

3.如权利要求1所述的低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体，其特征在于，该载体是通过如下生产工艺获得的：

(1)将无机物料与有机粘结剂干混均匀，得干混物料；无机物料包含滑石，高岭土、氧化铝、氢氧化铝、二氧化硅中的至少一种；

(2)在(1)中的干混物料中加入表面活性剂、润滑剂以及分散剂，湿混，得具有塑性的颗粒；

(3)将(2)中获得的具有塑性的颗粒过筛，除去杂质；

(4)在抽真空状态下连续挤出；

(5)挤出成型后微波，同时吸风干燥，切割，烧结，得蜂窝陶瓷载体；

优选的，高岭土为煅烧高岭土和生高岭土中的至少一种；

氢氧化铝中钾、钠的合计重量≤0.1％氢氧化铝重量。

4.如权利要求1～3中任一项所述的低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体，其特征在于：

当该载体为400cpsi/4mil的TWC载体时，无机物料包括以下重量份数的原料：38.18～40.81份的滑石、14.56～42.58份的煅烧高岭土、0～20份的生高岭土、0～16.28份的Al₂O₃、5～19.62份的氢氧化铝、0～11份的SiO₂；

优选的，无机物料包括以下重量份数的原料：40.02～40.81份的滑石、14.56～26.54份的煅烧高岭土、0～16份的生高岭土、6.85～16.28份的Al₂O₃、5～10份的氢氧化铝、5～11份的SiO₂；

更优选的，无机物料包括以下重量份数的原料：40.09～40.81份的滑石、14.56～26.54份的煅烧高岭土、0～8份的生高岭土、11.14～16.28份的Al₂O₃、5～10份的氢氧化铝、5～11份的SiO₂。

5.如权利要求1～3中任一项所述的低膨胀高强度薄壁高孔密度蜂窝陶瓷载体，其特征在于：

当该载体为400cpsi/4mil的TWC载体时，滑石中值粒径D50范围为5～25μm；煅烧高岭土D50范围在1.0μm～7μm；生高岭土D50的范围在1～7μm；Al₂O₃D50的范围在0.5～6μm；氢氧化铝D50范围在0.2～4.0μm，SiO₂D50的范围3～15μm；

优选的，滑石中值粒径D50范围为10～22μm；煅烧高岭土D50范围在2～4μm；生高岭土D50的范围在2～5μm；Al₂O₃D50的范围在0.5～4μm；氢氧化铝D50范围在1.0～3.0μm，SiO₂D50的范围4～8μm。