[发明专利]光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质有效
申请号: | 201910243077.4 | 申请日: | 2019-03-28 |
公开(公告)号: | CN109909815B | 公开(公告)日: | 2020-06-02 |
发明(设计)人: | 彭小强;胡皓;戴一帆;赵陶;铁贵鹏;石峰;李信磊 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科技大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B13/00;B24B49/00;G06F30/17;G06F30/20 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 谭武艺 |
地址: | 410073 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 复杂 曲面 元件 流变 抛光 补偿 加工 方法 系统 介质 | ||
1.一种光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法,其特征在于实施步骤包括:
1)对与待加工工件相同材料的平面工件获取平面去除函数
2)对待加工工件建立相同工况不同曲率半径下球面去除函数和平面去除函数的映射关系,根据该映射关系将平面去除函数
3)针对待加工工件面形区域内的每一个驻留点,拟合计算驻留点附近的复杂曲面局部区域
4)根据去除函数动态变化性,建立基于线性方程组模型的驻留时间求解算法,仿真求得各个驻留点的驻留时间分布及面形残差;
5)根据得到的各个驻留点的驻留时间分布及面形残差指导待加工工件的磁流变抛光;
步骤2)中详细步骤包括:
2.1)对待加工工件分别根据XZ平面形状、YZ平面形状建模,并分别获取去除函数形状在XZ、YZ平面内的分布;
2.2)对待加工工件XZ平面效率、YZ平面效率进行建模,获取去除函数效率在XZ、YZ两个平面内的分布;
2.3)根据得到的去除函数形状和效率在XZ、YZ两个平面内的分布,通过拟值拟合的方式得到凹球面磁流变去除函数3D模型,建立磁流变抛光凹球面去除函数库;在此基础上,分别通过给定一系列的曲率,分别求得各个曲率下的球面去除函数
2.根据权利要求1所述的光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法,其特征在于,步骤2)中映射得到不同曲率下的球面去除函数
式(1)中,
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