[发明专利]一种多场辅助超微射流加工装置

权利要求书

1.一种多场辅助超微射流加工装置，其特征在于：包括运动控制系统、多相射流聚焦喷射系统、闭环稳压控制系统和多场辅助系统及框架支撑系统，其中运动控制系统固定连接在框架支撑系统的底部，多相射流聚焦喷射系统, 闭环稳压控制系统和多场辅助系统分别安装在框架支撑系统上，闭环稳压控制系统通过多相射流聚焦喷射系统与多场辅助系统连接；

所述运动控制系统包括电动升降机构、X向二维位移平台、Y向二维位移平台和加工平台，电动升降机构的底座固定在框架支撑系统的底板上，X向二维位移平台底部固定在电动升降机构上，Y向二维位移平台底部固定在X向二维位移平台上部，加工平台固定在Y向二维位移平台上部；

所述框架支撑系统包括支撑板、立柱一、立柱二、连接件一的支撑件、电机支撑架、微型压电驱动器二的支撑件二、微型压电驱动器一的支撑件一、微型注射器一的支座一、微型注射器二的支座二、大金属片的支撑件一、大金属片的支撑件二、射流保护罩和底板，其中微型压电驱动器一的支撑件一和微型压电驱动器二的支撑件二固定在支撑板上，微型注射器一的支座一和微型注射器二的支座二固定在支撑板上，连接件一的支撑件分别与立柱一和立柱二固定连接，连接件一的支撑件上部与支撑板底部固定连接，支撑板底部分别与立柱一和立柱二固定连接，立柱一和立柱二下面固定在底板上，电机支撑架固定在射流保护罩上，射流保护罩固定在底板上，大金属片的支撑件一和大金属片的支撑件二套在带有法兰的保护液体射流管上，且大金属片的支撑件一和大金属片的支撑件二固定连接；

所述多相射流聚焦喷射系统包括带有法兰的磨料浆体射流管、带有法兰的保护液体射流管、喷嘴、带有通气孔的气-液-液三相射流混合腔、带有聚焦小孔的混合腔底盖、带有通保护液体孔的连接件一和带有通磨料浆体孔的连接件二；其中带有法兰的磨料浆体射流管在带有法兰的保护液体射流管内部、且与带有法兰的保护液体射流管同轴，带有法兰的磨料浆体射流管与带有通保护液体孔的连接件一通过法兰固定连接在一起，带有法兰的磨料浆体射流管与带有通磨料浆体孔的连接件二通过螺纹连接，带有法兰的保护液体射流管上端与带有通保护液体孔的连接件一下端螺纹连接，带有法兰的保护液体射流管下端与射流保护罩和带有通气孔的气-液-液三相射流混合腔通过螺栓固定连接，喷嘴通过螺纹连接在带有法兰的保护液体射流管内部，带有聚焦小孔的混合腔底盖固定连接在带有通气孔的气-液-液三相混合腔的底面，带有通保护液体孔的连接件一上部与支撑板通过法兰固定连接；

所述带有聚焦小孔的混合腔底盖的小孔直径为100mm；

所述闭环稳压控制系统包括微型注射器一、微型注射器二、微型压电驱动器一、微型压电驱动器二、压力传感器一和压力传感器二，其中微型注射器一连接在带有通磨料浆体孔的连接件二的左侧支口处，微型注射器二连接在带有通保护液体孔的连接件一的右上侧支口处，微型压电驱动器一连接在微型注射器一推杆上，微型压电驱动器二连接在微型注射器二推杆上，压力传感器一连接在带有通磨料浆体孔的连接件二上部，压力传感器二连接在带有通保护液体孔的连接件一的右端支口处，微型注射器一安装在微型注射器一的支座一上，微型注射器二安装在微型注射器二的支座二上，微型压电驱动器一安装在微型压电驱动器一的支撑件一上，微型压电驱动器二安装在微型压电驱动器二的支撑件二上；

所述多场辅助系统包括旋转磁场发生装置、大金属片和小金属片，其中旋转磁场发生装置包括圆环滑轨、下部带有滑块的空心输出齿轮、N极磁铁、S极磁铁、盖板、电机和连接电机的输入齿轮，其中：圆环滑轨固定在射流保护罩上，下部带有滑块的空心输出齿轮安装在圆环滑轨上，N极磁铁和S极磁铁安装在下部带有滑块的空心输出齿轮的两个腔体内，盖板封盖在腔体上面，输入齿轮连接在电机上，电机固定在电机支撑架上，下部带有滑块的空心输出齿轮和输入齿轮啮合，大金属片套在带有法兰的保护液体射流管的外部、且位于大金属片的支撑件一和大金属片的支撑件二上方，小金属片安装在气-液-液三相射流混合腔的底部和带有聚焦小孔的混合腔底盖之间，大金属片通过导线连接高压电源正极和小金属片通过导线连接高压电源负极，磨料浆体的磨料颗粒直径为60-100nm的纳米级磁性磨粒，保护液为导电液体，保护液体的压强大于磨料浆体的压强，气-液-液三相混合腔内通入气体的压强大于保护液体的压强。