[发明专利]用于相关滤波目标跟踪的模型更新方法及其装置有效

专利信息
申请号: 201910316876.X 申请日: 2019-04-19
公开(公告)号: CN110070126B 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 董秋杰;周盛宗;葛海燕;何雪东;刘钦 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: G06K9/62 分类号: G06K9/62;G06V10/75;G06V10/46;G06V10/56;G06V10/82;G06N3/08
代理公司: 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 代理人: 胡璇
地址: 350002 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 用于 相关 滤波 目标 跟踪 模型 更新 方法 及其 装置
【权利要求书】:

1.一种用于相关滤波目标跟踪的模型更新方法,其特征在于,包括:

将确定的第t-1帧图像中的匹配模板与第t帧图像中的目标进行匹配,得到响应值矩阵;

获取所述响应值矩阵中主次峰均值差比PSMD;

判断所述主次峰均值差比PSMD是否大于第一指定阈值,如果是,则更新所述相关滤波目标跟踪算法中目标模型;

所述获取所述响应值矩阵中主次峰均值差比PSMD,包括:

将确定的第t-1帧图像中的匹配模板与第t帧图像中的目标进行匹配,得到第一响应值矩阵;

确定所述第一响应值矩阵中的最大响应值和平均响应值M(t)

根据所述第一响应值矩阵与掩膜矩阵β生成第二响应值矩阵,并确定所述第二响应值矩阵中的最大响应值

所述主次峰均值差比PSMD为:

所述第一指定阈值为:

其中,为第2帧图像响应值矩阵中的最大响应值,M(2)为第2帧图像响应值矩阵的平均响应值,为第2帧图像响应值矩阵中的第二大响应值,μ为超参数;

所述掩膜矩阵β为与所述第一响应值矩阵同维度的二进制矩阵,其为经过掩膜处理的矩阵。

2.根据权利要求1所述的用于相关滤波目标跟踪的模型更新方法,其特征在于,所述匹配模板的获取具体包括以下步骤:

获取所述第t-1帧图像中目标的尺寸、特征信息和位置pt-1

在所述第t帧图像中以所述第t-1帧图像中目标的位置pt-1为中心设置搜索区域ο;

以所述第t帧图像中目标的尺寸在所述搜索区域ο内设置匹配区域,并提取所述匹配区域的特征信息作为所述匹配模板。

3.根据权利要求1所述的用于相关滤波目标跟踪的模型更新方法,其特征在于,“更新所述相关滤波目标跟踪算法中目标模型”之前还包括:判断所述响应值矩阵中的最大响应值是否大于第二指定阈值且同时判断所述主次峰均值差比是否大于所述第一指定阈值,如果都为是,则更新所述相关滤波目标跟踪算法中目标模型;

所述第二指定阈值为:

其中,为第2帧图像响应值矩阵中的最大响应值,ν为超参数。

4.一种用于相关滤波目标跟踪的模型更新装置,其特征在于,包括:第一获取模块、第二获取模块、判断更新模块;

第一获取模块,用于将确定的第t-1帧图像中的匹配模板与第t帧图像中的目标进行匹配,得到响应值矩阵;

第二获取模块,用于获取所述响应值矩阵的主次峰均值差比PSMD;

判断更新模块,用于判断所述主次峰均值差比PSMD是否大于第一指定阈值且同时判断所述响应值矩阵中的最大响应值是否大于第二指定阈值,如果都为是,则更新所述相关滤波目标跟踪算法中目标模型;

所述第二获取模块包括:

第一矩阵模块,用于将确定的第t-1帧图像中的匹配模板与第t帧图像中的目标进行匹配,得到第一响应值矩阵;

第一响应值模块,用于确定所述第一响应值矩阵中的最大响应值和平均响应值M(t)

第二矩阵模块,用于根据所述第一响应值矩阵与掩膜矩阵β生成第二响应值矩阵,并确定所述第二响应值矩阵中的最大响应值

差比模块,用于按下式计算所述主次峰均值差比PSMD:

所述第一指定阈值为:

其中,为第2帧图像响应值矩阵中的最大响应值,M(2)为第2帧图像响应值矩阵的平均响应值,为第2帧图像响应值矩阵中的第二大响应值,μ为超参数;所述掩膜矩阵β为与所述第一响应值矩阵同维度的二进制矩阵,其为经过掩膜处理的矩阵。

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