[发明专利]一种CT检测系统的缺陷检出性能极限评估方法有效

专利信息
申请号: 201910334850.8 申请日: 2019-04-24
公开(公告)号: CN110060293B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 齐子诚;倪培君;郑颖;余琼;付康;左欣;唐盛明;郭智敏;李红伟;马兰 申请(专利权)人: 中国兵器科学研究院宁波分院
主分类号: G06T7/62 分类号: G06T7/62;G06T7/00;G06K9/62
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 袁忠卫
地址: 315103 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 ct 检测 系统 缺陷 检出 性能 极限 评估 方法
【权利要求书】:

1.一种CT检测系统的缺陷检出性能极限评估方法,其特征在于:包括以下步骤:

步骤1、通过机械加工手段制造与被检工件材质一致的圆形或方形对比试块,且对比试块扫描的截面积等于被检工件的截面积;

步骤2、将对比试块与被检工件采用相同X射线CT工艺进行扫描,分别获取对比试块和被检工件的截面CT图像;

步骤3、在对比试块的截面CT图像中,选取对比试块的内部区域进行灰度直方图统计,并进行高斯拟合,得到高斯拟合曲线,且该高斯拟合曲线为噪声分布函数;

步骤4、获取对比试块的CT图像垂直界面一维点扩散函数,并以一维点扩散函数的中心位置为圆心进行周向旋转计算,获得二维点扩散函数;

步骤5、设置需要发现缺陷的直径,以缺陷的直径生成理想缺陷灰度分布二维图像,将该理想缺陷灰度分布二维图像与步骤4中的二维点扩散函数进行卷积运算,得到理想退化缺陷灰度分布二维图像;

步骤6、统计步骤5中理想退化缺陷灰度分布二维图像的灰度直方图,计算出材料灰度峰值和缺陷灰度峰值,并将该灰度直方图与步骤3中的噪声分布函数进行卷积运算,获得理论含噪声缺陷灰度分布函数;

步骤7、在步骤6中得到的理论含噪声缺陷灰度分布函数中,在缺陷与材料的灰度峰值之间寻找谷值,并根据缺陷灰度峰值和该谷值对应的灰度值,计算谷值与缺陷峰值对应的灰度值之比,根据瑞利判据判断出当灰度值之比小于N时,缺陷可被检出,当灰度值之比大于N时,缺陷不可被检出,其中,0N≤1;

步骤8、在被检工件的CT图像中,缺陷直径以一个像素尺寸为单位,采用步骤5~步骤7相同的方法,计算不同像素尺寸缺陷的灰度值之比,以缺陷直径为横坐标,灰度值之比为纵坐标,利用缺陷拟合法对测量数据进行平滑插值处理,建立缺陷直径与灰度值之比的关系曲线;

步骤9、提取出步骤8中灰度值之比为N时对应的缺陷直径,该缺陷直径为该被检工件的理论缺陷检测极限。

2.根据权利要求1所述的CT检测系统的缺陷检出性能极限评估方法,其特征在于:所述步骤3的具体步骤为:

步骤3-1、设对比试块的CT图像中的灰度级为[0,L-1],L为灰度级总数,在对比试块的截面CT图像中,选取对比试块内部区域进行图像灰度直方图统计,设对比试块中选取的区域内图像的灰度直方图序列hf:其中,hf=M(j),j为选取的区域图像中灰度级对应的像素值,即灰度值,j∈[0,L-1],M(j)为选取的区域图像中灰度值为j的像素数量;

步骤3-2、对输出序列直方图hf进行高斯拟合,得到拟合后的材料灰度高斯曲线函数Hf(j),该拟合后的材料灰度高斯曲线函数Hf(j)为噪声分布函数,其中,拟合后的材料灰度高斯曲线函数Hf(j)为:

其中,af为材料灰度拟合后高斯曲线的幅值,μf为材料灰度拟合后高斯曲线的灰度值均值,σf为材料灰度拟合后高斯曲线的灰度值标准偏差。

3.根据权利要求1所述的CT检测系统的缺陷检出性能极限评估方法,其特征在于:所述步骤4的具体步骤为:

步骤4-1、当对比试块为圆形时,采用GB_T 29069-2012《无损检测工业计算机层析成像系统性能测试方法》中5.3圆盘卡法获得圆形对比试块CT图像垂直界面一维点扩散函数PSF(k);

当对比试块为方形时,框选对比试块的边缘区域,该区域避开CT伪像区域,并且该区域尽量多的包含对比试块边缘,对该区域进行二值化分割,获取离散边缘点,对离散边缘点进行拟合获得拟合直线,在拟合直线两侧距离范围内,将同侧等距离点的灰度值进行合并取均值形成一维数组,即为边缘响应函数,该函数进行拟合平滑处理,求导获得方形对比试块CT图像垂直界面一维点扩散函数PSF(k);

步骤4-2、以一维点扩散函数PSF(k)的中心位置为圆心进行周向旋转计算获得二维点扩散函数TDP(x,y);其中,a和b为一维点扩散函数的中心位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国兵器科学研究院宁波分院,未经中国兵器科学研究院宁波分院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910334850.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top