[发明专利]一种数字投影直接感光成像装置及其工艺在审
申请号: | 201910377434.6 | 申请日: | 2019-05-07 |
公开(公告)号: | CN110095949A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 范金刚;蓝学军;胡迷俊 | 申请(专利权)人: | 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙) 44324 | 代理人: | 周松强 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影仪 感光载体 成像装置 数字投影 直接感光 电脑 机台 图像 投影仪投影 紫外灯光源 操作过程 感光成像 活动连接 生产加工 装置结构 曝光 工艺流程 电连接 在机 光源 | ||
一种数字投影直接感光成像装置及其工艺,其包括电脑、机台、投影仪、感光载体和调节机构,所述投影仪的光源为紫外灯光源,所述投影仪、感光载体和调节机构均设置在机台上,所述投影仪与感光载体对应设置,所述投影仪通过基座与调节机构活动连接,且所述调节机构调节投影仪与感光载体之间的距离,所述投影仪和调节机构均与电脑电连接;利用电脑制作出需要曝光的图像,将该图像通过投影仪投影至感光载体上并对感光载体进行曝光。整个感光成像的操作过程简单方便,且本装置结构简单,工艺流程操作简单、生产加工成本低。
技术领域
本发明涉及曝光技术领域,特别涉及一种投影曝光装置及其工艺。
背景技术
光刻机(MaskAligner)又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。光刻(Photolithography)指的是用光来制作一个图形,一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
现有技术公开了一种多功能的LED平行曝光机(申请号:201711154058.1),该发明包括外壳、支脚、垫块、工作架结构、散热装置、灯架、灯源、辅助照明装置和控制面板,所述的支脚焊接自外壳的下部左右两侧;所述的垫块安装在支脚的中下部;所述的工作架结构安装在灯架的上部右侧。该发明纵向刻度尺通过调节块安装在滑轨上,有利于方便调节曝光件在工作架本体上的横向位置;横向定位架套接在纵向刻度尺的右侧,有利于方便调节曝光件在工作架本体上的纵向位置;防尘网安装在固定框的右侧,有利于防止灰尘进入到固定框对,配合循环管和散热风机,进一步提高对灯源的散热效果;灯管采用可伸缩塑料波纹管,有利于方便调节照明灯的照射角度,进一步增加使用功能。
这类物理原稿(胶片或掩膜版,以下简称原稿)光学转移曝光成像装置的原理是:通过原稿(胶片或掩膜版,上有黑白图案)与感光材料的紧密接触后曝光而成,在涂有感光材料的载体上得到原稿上的图像,需要提前将电脑上设计好的图像制作成原稿。但这种方式,存在以下缺陷:1、其制作原稿需要成本、较复杂的工艺技术和设备,完成订单需要的工艺流程相对复杂,效率较低,交货周期长;2、制作胶片原稿的过程中存在化学药剂(如显影液、定影液)的使用和污水(胶片经过显影,定影后需要水洗)的排放;3、在将原稿转移到感光载体的过程中需要将两者完全贴合,贴合方式是用软橡皮将原稿与感光载体挤压包裹并抽掉其中的空气使之形成真空,橡皮在挤压原稿和被曝光物完全贴合的过程中,可能会引起原稿或被曝光物变形,从而导致感光载体上的图案尺寸与原稿的尺寸出现偏差。
现有技术还公开了一种喷墨成像装置以及用于该喷墨成像装置的墨盒(申请号:201220666605.0),该实用新型的墨盒具有划定储墨腔的框体,所述储墨腔内设有:限制单元,浮子部件和可与浮子部件连动的第一被检测部件;墨盒框体中设有导光柱,导光柱在检测位置处形成凹槽。当墨盒中墨水充足时,所述第一被检测部件嵌在所述凹槽中,导光柱光路导通;当墨水量不足时,浮子部件下降带动光学部件从所述凹槽中移出,导光柱光通路被截断;因此只要检测导光柱有无光路通过即可判断墨盒中墨量是否充足,墨盒结构相对简单,并且能够实现可靠的墨水量检测。
喷墨成像系统的原理是:通过喷墨系统把阻光的油墨喷印在感光层上,待油墨干燥后接着用紫外线进行全面曝光,这时未喷墨的地方感光层见光硬化,喷墨的地方连同油墨能被水冲洗掉,从而形成图文部分,这种技术相当于在感光载体上喷了一层原稿图像后再曝光成像。但这种方式的缺陷是1、阻光油墨必须有足够的密度以阻挡全面曝光时的紫外线,要求墨层的密度要大于3.0;2、油墨要具有足够的流动性,以保证其不堵塞喷嘴;3、油墨墨滴会产生飞溅而影响精度;4、喷嘴要不断移动才能完成,一次也只能完成一小部分,速度慢;5、此系统耗材(油墨,喷嘴)的费用较高;6、油墨是一种化工产品,存在一定的污染性,且油墨需要干燥后再进行后曝光处理。
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