[发明专利]一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法在审
| 申请号： | 201910378992.4 | 申请日： | 2019-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN110095950A | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | 路翠翠;张红钰;肖致远;刘舟慧;王晨阳;钟锦锐 | 申请（专利权）人： | 北京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 | 代理人： | 邬晓楠 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 纳米梁 微纳加工 聚焦离子束刻蚀 聚焦离子束 出纳米梁 刻蚀样品 纳米器件 新型纳米 缓冲液 氢氟酸 光力 束流 力学 扫描 腐蚀 研究 | ||
【权利要求书】：
1.一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：利用FIB直接在介质材料上刻蚀空气孔纳米梁及其两侧激发端，将整个结构放入氢氟酸缓冲液中腐蚀，制备出悬空纳米梁，将悬空纳米梁放入聚焦离子束电子束双束系统中，用离子束扫描样品表面，制备出弯曲的纳米梁。
2.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：通过控制离子束扫描时间和束流大小，制备出不同弯曲程度的空气孔纳米梁。
3.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：所述纳米梁为弯曲结构，所述纳米梁的弯曲程度可控。
4.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：空气孔的形状包括圆形、方形、三角形、菱形、梯形等可用FIB加工的图形；空气孔的尺寸为10nm-2μm，并且小于纳米梁宽度和长度。
5.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：空气孔纳米梁的宽度为200nm-2μm。
6.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：空气孔纳米梁的长度为1μm-50μm。
7.如权利要求1所述的一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法，其特征在于：材料的最上层为不能与氢氟酸缓冲液反应的介质材料或金属材料，厚度为30nm-2um，第二层为能够与氢氟酸缓冲液反应的氧化物。
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